[发明专利]一种镀金属石墨片及其制备方法

权利要求书

1.一种镀金属石墨片的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1、将铬金属通过磁控溅射方法镀到石墨片上，得到具有铬支撑层的第一石墨片；

步骤2、将铜合金靶材上的铜合金通过磁控溅射方法镀到第一石墨片的铬支撑层上，得到具有铜合金屏蔽层的第二石墨片；

所述铜合金靶材的重量百分比组成为：Cr 0.1-0.5％，Al 1-3％，其余为Cu；

步骤3、将镍金属通过磁控溅射方法镀到所述第二石墨片的铜合金屏蔽层上，得镀金属石墨片；

所述石墨片的厚度为20-100μm，所述铬支撑层的厚度为0.1-1μm，所述铜合金屏蔽层的厚度为3-10μm，所述镍金属镀到所述第二石墨片的厚度为0.1-1μm。

2.根据权利要求1所述的镀金属石墨片的制备方法，其特征在于，所述铜合金靶材的制备方法为：

将Cr、Al和Cu原料用感应熔炼法，在真空气氛下，1100-1200℃的温度下进行熔炼合金化，再将合金化后的熔融液浇铸到铸模中，得到铜合金靶材。

3.根据权利要求1所述的镀金属石墨片的制备方法，其特征在于，所述石墨片的厚度为40μm，所述铬支撑层的厚度为0.5μm，所述铜合金屏蔽层的厚度为5μm，所述镍金属镀到所述第二石墨片的厚度为1μm。

4.根据权利要求1所述的镀金属石墨片的制备方法，其特征在于，所述铜合金靶材的重量百分比组成为：Cr 0.5％，Al 1％，其余为Cu。

5.根据权利要求1所述的镀金属石墨片的制备方法，其特征在于，所述铜合金靶材上设有循环水冷却装置。

6.权利要求1-5任一项所述的镀金属石墨片的制备方法制备得到的镀金属石墨片。