[发明专利]晶圆传送监测方法及晶圆传送监测装置在审
申请号: | 202010361282.3 | 申请日: | 2020-04-30 |
公开(公告)号: | CN111554594A | 公开(公告)日: | 2020-08-18 |
发明(设计)人: | 毕迪 | 申请(专利权)人: | 上海果纳半导体技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/677 |
代理公司: | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人: | 孙佳胤;陈丽丽 |
地址: | 201306 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 传送 监测 方法 装置 | ||
1.一种晶圆传送监测方法,其特征在于,包括如下步骤:
获取多条标准晶圆传送轨迹数据,所述标准晶圆传送轨迹数据是指晶圆传送过程未发生异常时的传送轨迹数据;
根据多条所述标准晶圆传送轨迹数据获取所述晶圆传送轨迹偏移量的参考分布区间;
获取多条待测晶圆传送轨迹数据,所述待测晶圆传送轨迹数据是指晶圆在生产过程中的实际待测传送轨迹数据;
根据多条所述待测晶圆传送轨迹数据获取所述晶圆在生产过程中实际传送轨迹偏移量的待测分布区间;
判断所述待测分布区间的中值是否偏离所述参考分布区间的中值,若是,则确认所述晶圆传送出现异常。
2.根据权利要求1所述的晶圆传送监测方法,其特征在于,获取多条标准晶圆传送轨迹数据的具体步骤包括:
沿所述晶圆的传送路径设置多个传感器;
通过所述传感器获取多条标准晶圆传送轨迹数据。
3.根据权利要求1所述的晶圆传送监测方法,其特征在于,根据多条所述标准晶圆传送轨迹数据获取所述晶圆传送轨迹偏移量的参考分布区间的具体步骤包括:
采用智能学习算法对多条所述标准晶圆传送轨迹数据进行学习,获取所述晶圆传送轨迹偏移量的参考正态分布区间。
4.根据权利要求3所述的晶圆传送监测方法,其特征在于,所述待测分布区间为待测正态分布区间;判断所述待测分布区间的中值是否偏离所述参考分布区间的中值的具体步骤包括:
判断所述待测正态分布区间的中值与所述参考正态分布区间的中值之间的差值是否大于阈值,若是,则确认所述待测分布区间的中值偏离所述参考分布区间的中值,所述阈值是指所述参考正态分布区间的四分之一宽度范围。
5.根据权利要求1所述的晶圆传送监测方法,其特征在于,每一所述标准晶圆传送轨迹数据包括所述晶圆在多个站点之间的标准传送轨迹数据;
每一所述待测晶圆传送轨迹数据包括晶圆在生产过程中于多个站点之间的待测传送轨迹数据。
6.根据权利要求1所述的晶圆传送监测方法,其特征在于,确认所述晶圆传送出现异常之后,还包括如下步骤:
停止晶圆传送过程。
7.一种晶圆传送监测装置,其特征在于,包括:
存储模块,用于获取并存储多条标准晶圆传送轨迹数据和多条待测晶圆传送轨迹数据,所述标准晶圆传送轨迹数据是指晶圆在传送过程中未发生异常时的传送轨迹数据,所述待测晶圆传送轨迹数据是指晶圆在生产过程中的实际待测传送轨迹数据;
获取模块,连接所述存储模块,用于根据多条所述标准晶圆传送轨迹数据获取所述晶圆传送轨迹偏移量的参考分布区间,并根据多条所述待测晶圆传送轨迹数据获取所述晶圆在生产过程中实际传送轨迹偏移量的待测分布区间;
判断模块,连接所述获取模块,用于判断所述待测分布区间的中值是否偏离所述参考分布区间的中值,若是,则确认所述晶圆传送出现异常。
8.根据权利要求7所述的晶圆传送监测装置,其特征在于,还包括沿所述晶圆的传送路径设置多个传感器;
所述存储模块通过所述传感器获取多条标准晶圆传送轨迹数据。
9.根据权利要求7所述的晶圆传送监测装置,其特征在于,所述获取模块用于采用智能学习算法对多条所述标准晶圆传送轨迹数据进行学习,获取所述晶圆传送轨迹偏移量的参考正态分布区间。
10.根据权利要求9所述的晶圆传送监测装置,其特征在于,所述待测分布区间为待测正态分布区间;
所述判断模块用于判断所述待测正态分布区间的中值与所述参考正态分布区间的中值之间的差值是否大于阈值,若是,则确认所述待测分布区间的中值偏离所述参考分布区间的中值,所述阈值是指所述参考正态分布区间的四分之一宽度范围。
11.根据权利要求7所述的晶圆传送监测装置,其特征在于,每一所述标准晶圆传送轨迹数据包括所述晶圆在多个站点之间的标准传送轨迹数据;
每一所述待测晶圆传送轨迹数据包括晶圆在生产过程中于多个站点之间的待测传送轨迹数据。
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