[发明专利]一种晶硅表面处理用臭氧水液体中消除气泡的方法

权利要求书

1.一种晶硅表面处理用臭氧水液体中消除气泡的方法，其特征在于：使用晶硅表面处理用臭氧水液体中消除气泡的装置进行气泡消除，所述消除气泡的装置包括缓冲罐、气液混合器、进气口、进液口、排液管、气液混合出口、第一液位传感器、第二液位传感器以及多余气体出口；所述气液混合器安装在所述缓冲罐的内部并固定在所述缓冲罐的底端，所述进气口、所述进液口以及所述排液管均设置在所述缓冲罐的底端，所述气液混合出口、所述第一液位传感器以及所述第二液位传感器从低到高依次设置在所述缓冲罐的罐体侧面，所述多余气体出口设置在所述缓冲罐的顶端；所述进气口上安装有气体进气气动阀，所述多余气体出口上安装有多余气体排气阀；所述第一液位传感器和所述第二液位传感器均与所述多余气体排气阀连接并控制所述多余气体排气阀，当所述缓冲罐内的液位到达所述第一液位传感器的高度，所述多余气体排气阀在所述第一液位传感器的信号控制下打开，当所述缓冲罐内的液位到达所述第二液位传感器的高度，所述多余气体排气阀在所述第二液位传感器的信号控制下关闭；

气体和液体源源不断地流入缓冲罐中，气体和液体进入所述缓冲罐内直接经过所述气液混合器进行混合，混合液从所述气液混合出口流出；当混合液的高度到达所述第一液位传感器的高度，所述第一液位传感器将信号发送给所述多余气体排气阀，所述多余气体排气阀打开，所述缓冲罐内无法溶于液体中的臭氧气泡浮出液体并从所述多余气体排气阀中排出，实现静态脱泡；当混合液的高度到达所述第二液位传感器的高度，所述第二液位传感器将信号发送给所述多余气体排气阀，所述多余气体排气阀关闭，所述缓冲罐内多余的臭氧气泡浮出液面后无法排出，所述缓冲罐内压强增大，防止液位继续上升，混合液从所述气液混合出口中流出。

2.如权利要求1所述的晶硅表面处理用臭氧水液体中消除气泡的方法，其特征在于：所述进液口位于所述气液混合器的正下方。

3.如权利要求2所述的晶硅表面处理用臭氧水液体中消除气泡的方法，其特征在于：所述进气口是进液口的分支并且连通于所述进液口。

4.如权利要求1所述的晶硅表面处理用臭氧水液体中消除气泡的方法，其特征在于：所述进气口上装有气体进气气动阀。

5.如权利要求1所述的晶硅表面处理用臭氧水液体中消除气泡的方法，其特征在于：所述进气口和所述多余气体出口均为1/4″ Flaretek管接头，所述进液口和所述气液混合出口均为1″ Union connector管接头，所述排液管为1/2″ Flaretek管接头。

6.如权利要求1所述的晶硅表面处理用臭氧水液体中消除气泡的方法，其特征在于：所述第二液位传感器位于所述气液混合器的上方。