[发明专利]局部亮光可变图像光学系统及其制作方法

权利要求书

1.一种局部亮光可变图像光学系统，其特征在于，包括：

微透镜阵列层；

基材层，透明且位于所述微透镜阵列层之下；

图文结构，位于所述基材层之下且分布于所述基材层的局部；以及

镀层，仅覆盖所述图文结构的表面且用于增强所述图文结构的亮度。

2.如权利要求1所述的局部亮光可变图像光学系统，其特征在于，所述图文结构为宏观序列图或微图文阵列。

3.如权利要求1所述的局部亮光可变图像光学系统，其特征在于，所述图文结构为内凹型结构或外凸型结构。

4.如权利要求3所述的局部亮光可变图像光学系统，其特征在于，所述内凹型结构的内凹深度或所述外凸型结构的外凸高度为0.5微米至5微米。

5.如权利要求4所述的局部亮光可变图像光学系统，其特征在于，所述内凹型结构的内凹深度或所述外凸型结构的外凸高度为1微米至3微米。

6.如权利要求1所述的局部亮光可变图像光学系统，其特征在于，所述图文结构的表面为平面或光栅结构。

7.如权利要求1所述的局部亮光可变图像光学系统，其特征在于，所述微透镜阵列层为微柱透镜阵列或微圆透镜阵列。

8.如权利要求1所述的局部亮光可变图像光学系统，其特征在于，所述镀层的材料为金、银、铜、铝、镍中的任意一种。

9.一种局部亮光可变图像光学系统的制作方法，其特征在于，用于制作如权利要求1-8中任意一项所述的局部亮光可变图像光学系统，所述制作方法包括：

在基材的一侧制作微透镜阵列层；

在所述基材的另一侧制作图文结构；

在所述基材制作有所述图文结构的一侧形成镀层；

去除所述图文结构的表面之外的镀层；

将前一步骤所得产品清洗、晾干，得到最终产品。

10.如权利要求9所述的制作方法，其特征在于，在所述基材的另一侧制作图文结构，包括：

根据所需的图文结构设计与所述图文结构对应的光刻文件；

使用光刻机根据所述光刻文件制作出与所述图文结构对应的胶板；

利用电化学沉积工艺将所述胶板制作成金属模压板；

利用所述金属模压板在所述基材的另一侧制作图文结构；

和/或，

去除所述图文结构的表面之外的镀层，包括：

通过电解技术工艺去除图文结构的表面之外的镀层。