[发明专利]局部亮光可变图像光学系统及其制作方法

说明书

本发明公开了一种局部亮光可变图像光学系统及其制作方法。局部亮光可变图像光学系统，包括：微透镜阵列层；基材层，透明且位于所述微透镜阵列层之下；图文结构，位于所述基材层之下且分布于所述基材层的局部；以及镀层，仅覆盖所述图文结构的表面且用于增强所述图文结构的亮度。本发明通过图文结构的局部亮光，可实现仅需要的图像产生立体或可变效果，其他部分为透明，这样在与其他印刷产品结合使用时既不会影响其他图案的表现，又可以在需要的地方增加立体或可变效果的点缀，大大增加了印刷品的美观度和吸引力。

技术领域

本发明属于光学领域，尤其涉及一种局部亮光可变图像光学系统及其制作方法。

背景技术

利用柱透镜实现3D立体效果或可变图像效果均为整幅效果，不能实现立体或可变效果与其他图案的有机结合，这导致它的应用领域大受限制。传统的光栅立体和可变效果的图案均为油墨印刷而成，不能融合目前市场中常见的镭射全息效果。因为镭射全息效果需要金属镀层才能实现炫彩的效果，而金属镀层只能整幅面实现，局部镀层需要后续进行精准的镀层去除，这在目前有很大的技术难度。

发明内容

本发明要解决的技术问题是为了克服现有技术中传统的3D立体效果或可变图像效果均为整幅效果的缺陷，提供一种局部亮光可变图像光学系统及其制作方法。

本发明是通过下述技术方案来解决上述技术问题：

一种局部亮光可变图像光学系统，包括：

微透镜阵列层；

基材层，透明且位于所述微透镜阵列层之下；

图文结构，位于所述基材层之下且分布于所述基材层的局部；以及

镀层，仅覆盖所述图文结构的表面且用于增强所述图文结构的亮度。

较佳地，所述图文结构为宏观序列图或微图文阵列。

较佳地，所述图文结构为内凹型结构或外凸型结构。

较佳地，所述内凹型结构的内凹深度或所述外凸型结构的外凸高度为0.5微米至5微米。

较佳地，所述内凹型结构的内凹深度或所述外凸型结构的外凸高度为1微米至3微米。

较佳地，所述图文结构的表面为平面或光栅结构。

较佳地，所述微透镜阵列层为微柱透镜阵列或微圆透镜阵列。

较佳地，所述镀层的材料为金、银、铜、铝、镍中的任意一种。

一种局部亮光可变图像光学系统的制作方法，用于制作如上所述的局部亮光可变图像光学系统，所述制作方法包括：

在基材的一侧制作微透镜阵列层；

在所述基材的另一侧制作图文结构；

在所述基材制作有所述图文结构的一侧形成镀层；

去除所述图文结构的表面之外的镀层；

将前一步骤所得产品清洗、晾干，得到最终产品。

较佳地，在所述基材的另一侧制作图文结构，包括：

根据所需的图文结构设计与所述图文结构对应的光刻文件；

使用光刻机根据所述光刻文件制作出与所述图文结构对应的胶板；

利用电化学沉积工艺将所述胶板制作成金属模压板；

利用所述金属模压板在所述基材的另一侧制作图文结构；

和/或，

去除所述图文结构的表面之外的镀层，包括：