[发明专利]一种瞬态电压抑制保护器件、制作工艺及电子产品在审
| 申请号: | 202010345922.1 | 申请日: | 2020-04-27 |
| 公开(公告)号: | CN111564438A | 公开(公告)日: | 2020-08-21 |
| 发明(设计)人: | 张富生;许成宗 | 申请(专利权)人: | 上海韦尔半导体股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H01L27/082;H01L21/8222;H01L29/06 |
| 代理公司: | 深圳睿臻知识产权代理事务所(普通合伙) 44684 | 代理人: | 张海燕 |
| 地址: | 201203 上海市浦东新区中国(上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 瞬态 电压 抑制 保护 器件 制作 工艺 电子产品 | ||
1.一种瞬态电压抑制保护器件,其特征在于,包括,衬底,第一阱,第二阱,第一注入区和第二注入区;
所述第一阱和第二阱依次从左到右相互间隔设置在所述衬底上,所述第一阱和第二阱掺杂类型相同,且分别与所述衬底的掺杂类型相反,所述第一阱和第二阱分别设置有掺杂类型相反的第一注入区和第二注入区;
所述衬底作为共用集电极,所述第一阱和第二阱分别作为基极,所述第一注入区和第二注入区分别通过金属连接作为发射极引出。
2.根据权利要求1所述的瞬态电压抑制保护器件,其特征在于,所述第一阱和第二阱分别与所述衬底之间形成的pn结的结深相同,所述第一注入区和所述第二注入区分别与所述第一阱和第二阱之间形成的pn结的结深相同。
3.根据权利要求1至2任一项所述的瞬态电压抑制保护器件,其特征在于,所述第一阱和第二阱掺杂浓度相同,所述第一注入区和第二注入区掺杂浓度相同。
4.根据权利要求1至2任一项所述的瞬态电压抑制保护器件,其特征在于,所述第一注入区和第二注入区分别设置在所述第一阱和第二阱中央位置。
5.根据权利要求1至2任一项所述的瞬态电压抑制保护器件,其特征在于,所述第一阱和第二阱之间间隔距离为5-20um。
6.根据权利要求1至2任一项所述的瞬态电压抑制保护器件,其特征在于,所述衬底作为集电极的电阻率为30-1500Ω·cm。
7.一种瞬态电压抑制保护器件,其特征在于,包括,衬底,外延层,第一阱,第二阱,第一注入区和第二注入区;
所述外延层设置在所述衬底上,所述第一阱和第二阱依次从左到右相互间隔设置在所述外延层上,所述第一阱和第二阱掺杂类型相同,且分别与所述外延层的掺杂类型相反,所述第一阱和第二阱分别设置有掺杂类型相反的第一注入区和第二注入区;
所述外延层作为共用集电极,所述第一阱和第二阱分别作为基极,所述第一注入区和第二注入区分别通过金属连接作为发射极引出。
8.根据权利要求7所述的瞬态电压抑制保护器件,其特征在于,所述第一阱和第二阱分别与所述外延层之间形成的pn结的结深相同,所述第一注入区和所述第二注入区分别与所述第一阱和第二阱之间形成的pn结的结深相同。
9.根据权利要求7至8任一项所述的瞬态电压抑制保护器件,其特征在于,所述第一阱和第二阱掺杂浓度相同,所述第一注入区和第二注入区掺杂浓度相同。
10.根据权利要求9任一项所述的瞬态电压抑制保护器件,其特征在于,所述外延层的掺杂浓度小于所述衬底。
11.根据权利要求7至8任一项所述的瞬态电压抑制保护器件,其特征在于,所述外延层与所述衬底的掺杂类型相同或不同。
12.根据权利要求7至8任一项所述的瞬态电压抑制保护器件,其特征在于,所述第一注入区和第二注入区分别设置在所述第一阱和第二阱中央位置。
13.根据权利要求7至8任一项所述的瞬态电压抑制保护器件,其特征在于,所述第一阱和第二阱之间间隔距离为5-20um。
14.根据权利要求7至8任一项所述的瞬态电压抑制保护器件,其特征在于,所述外延层作为集电极的电阻率为30-1500Ω·cm。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





