[发明专利]一种显示模组及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010343910.5 申请日: 2020-04-27
公开(公告)号: CN111524461A 公开(公告)日: 2020-08-11
发明(设计)人: 江国栋 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G09F9/30 分类号: G09F9/30;G06K9/00
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 张晓薇
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 显示 模组 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种显示模组,其特征在于,包括:显示面板及设置在所述显示面板内部的指纹识别模块,所述显示面板包括:第一衬底、位于所述第一衬底上方的第二衬底以及制备于所述第二衬底上的功能层;所述指纹识别模块设置在所述第一衬底和所述第二衬底之间。

2.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述指纹识别模块包括:

驱动电路层,制备于所述第一衬底上;

压电材料层,制备于所述驱动电路层上;

电极层,制备于所述压电材料层上;

第一缓冲层,制备于所述电极层上。

3.根据权利要求2所述的显示模组,其特征在于,所述功能层包括:

第二缓冲层,制备于所述第二衬底上;

有源层,制备于所述第二缓冲层上;

第一绝缘层,设置于所述有源层上;

源电极,连接于所述有源层;

漏电极,连接于所述有源层;

栅电极,设置于所述第一绝缘层上;

第二绝缘层,设置在所述栅电极以及所述源电极和所述漏电极之间;

像素电极层,连接至所述源电极或所述漏电极;

平坦化层,设置在所述像素电极层与所述漏电极和所述源电极之间。

4.根据权利要求3所述的显示模组,其特征在于,所述有源层包括:沟道区以及位于所述沟道区两侧的源区和漏区,所述源区连接至所述源电极;所述漏区连接至所述漏电极。

5.根据权利要求4所述的显示模组,其特征在于,所述栅电极与所述沟道区对应。

6.根据权利要求5所述的显示模组,其特征在于,所述显示面板包括显示区域和非显示区域,所述非显示区域包括外引线结合区,所述显示区域通过若干引线与所述外引线结合区连接。

7.根据权利要求6所述的显示模组,其特征在于,所述显示模组还包括驱动芯片,若干所述引线通过所述外引线结合区后连接至所述驱动芯片。

8.根据权利要求7所述的显示模组,其特征在于,所述驱动电路层设置有若干第一过孔,所述电极层设置有若干第二过孔,所述第一过孔和所述第二过孔一一对应,所述第一过孔与所述引线一一对应,每一所述引线通过对应的第一过孔和所述第二过孔与所述驱动电路层和所述电极层连接。

9.一种显示模组制备方法,其特征在于,包括:

制备第一衬底;

在所述第一衬底上制备指纹识别模块;

在所述指纹识别模块上制备第二衬底;

在所述第二衬底上制备显示面板的功能层。

10.根据权利要求9所述的显示模组制备方法,其特征在于,所述在所述第一衬底上制备指纹识别模块包括:

在所述第一衬底上制备驱动电路层;

在所述驱动电路层上制备压电材料层;

在所述压电材料层上制备电极层;

在所述电极层上制备第一缓冲层。

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