[发明专利]包括硬涂层的保护窗及包括所述保护窗的柔性显示装置

说明书

本申请涉及保护窗和包括所述保护窗的显示装置。所述保护窗包括柔性基底膜和设置在所述柔性基底膜上的硬涂层。所述硬涂层包含硅酮流平剂和无机抗静电剂。所述硬涂层包括上区域和设置在所述上区域与所述柔性基底膜之间的下区域，并且所述下区域中的所述无机抗静电剂的密度大于所述上区域中的所述无机抗静电剂的密度。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2019年4月25日提交的第10-2019-0048368号韩国专利申请的优先权和权益，所述韩国专利申请的全部内容通过援引并入本文。

技术领域

示例性实施方案涉及保护窗。更具体地，示例性实施方案涉及包括硬涂层的保护窗及包括所述保护窗的柔性显示装置。

背景技术

塑料膜(塑料衬底)可以用作显示装置的窗以减少显示装置的重量或以实现(例如提供)柔性显示装置。

发明内容

示例性实施方案提供包括硬涂层的具有改善的可靠性的保护窗。

示例性实施方案提供包括所述保护窗的显示装置。

根据示例性实施方案，保护窗包括柔性基底膜和设置在所述柔性基底膜上的硬涂层。所述硬涂层包含硅酮流平剂和无机抗静电剂。所述硬涂层包括上区域和设置在所述上区域与所述柔性基底膜之间的下区域，并且所述上区域中的所述无机抗静电剂的密度大于所述下区域中的所述无机抗静电剂的密度。

在示例性实施方案中，所述柔性基底膜包含PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)、PC(聚碳酸酯)、PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯)、聚偏二氯乙烯、PVDF(聚偏二氟乙烯)、聚苯乙烯、乙烯-乙烯醇共聚物或其组合。

在示例性实施方案中，所述无机抗静电剂包括铟氧化物、锌氧化物、锡氧化物、锑氧化物或其组合。

在示例性实施方案中，所述无机抗静电剂包括Sb₂O₅、SnO₂或其组合。

在示例性实施方案中，所述硬涂层中的所述硅酮流平剂的含量等于或小于2重量百分比(wt％)，并且所述硬涂层中的所述无机抗静电剂的含量等于或小于2wt％。

在示例性实施方案中，所述硬涂层中的所述硅酮流平剂的含量是0.1wt％至1wt％，并且所述硬涂层中的所述无机抗静电剂的含量是0.05wt％至0.5wt％。

在示例性实施方案中，所述硬涂层进一步包含(甲基)丙烯酸酯化合物的固化产物。

在示例性实施方案中，所述硬涂层的表面粗糙度(RMS)是1纳米(nm)至2nm。

在示例性实施方案中，所述保护窗包括防指纹层，所述防指纹层包含含氟化合物。

在示例性实施方案中，所述保护窗进一步包括在所述硬涂层与所述柔性基底膜之间的界面层，并且所述界面层包含来自所述柔性基底膜的第一组分和来自所述硬涂层的第二组分，其中所述界面层的厚度等于或小于1微米(μm)。

在示例性实施方案中，在60℃和93％的湿度下所述硬涂层的吸湿性等于或小于2％。

根据示例性实施方案，显示装置包括基底衬底、设置在所述基底衬底上的发光元件阵列、覆盖所述发光元件阵列的封装层以及设置在所述封装层上的保护窗。所述保护窗包括柔性基底膜和设置在所述柔性基底膜上的硬涂层。所述硬涂层包含硅酮(即，基于硅酮的)流平剂和无机抗静电剂。所述硬涂层包括上区域和设置在所述上区域与所述柔性基底膜之间的下区域，并且所述上区域中的所述无机抗静电剂的密度大于所述下区域中的所述无机抗静电剂的密度。