[发明专利]光刻胶的涂布方法在审
| 申请号： | 202010321148.0 | 申请日： | 2020-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN111522203A | 公开（公告）日： | 2020-08-11 |
| 发明（设计）人： | 王绪根;吴长明;姚振海;陈骆;朱联合;韩建伟 | 申请（专利权）人： | 华虹半导体（无锡）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 罗雅文 |
| 地址： | 214028 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 方法 | ||
1.一种光刻胶的涂布方法，其特征在于，所述方法包括：
将待涂胶的晶圆放置在涂胶显影机台的承载台；
利用光刻胶溶剂清洗所述晶圆背面；
清洗完成后，控制所述晶圆按预设参数转动，甩干所述晶圆背面，所述预设参数包括转速和转动时间；
控制所述晶圆处于静止状态，向所述晶圆的正面喷涂光刻胶；
涂胶完成后，控制所述晶圆转动，令所述光刻胶成膜。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述光刻胶为非感光性聚酰亚胺。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述利用光刻胶溶剂清洗所述晶圆背面，包括：
控制所述晶圆转动；
通过所述晶圆下方的喷洗阀向所述晶圆背面喷洒所述光刻胶溶剂。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述晶圆的下方至少设置有两个所述喷洗阀。
5.根据权利要求1或3所述的方法，其特征在于，所述光刻胶溶剂为N-甲基吡咯烷酮。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述清洗完成后，控制所述晶圆按预设参数转动，甩干所述晶圆的背面，包括：
清洗完成后，在预定转动时间内控制所述晶圆按预设转速转动，甩干所述晶圆的背面；
其中，所述预设转速从低到高变化。
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述预设转速的范围为1500RPM-3500RPM。
8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述涂胶完成后，控制所述晶圆转动，令所述光刻胶成膜，包括：
涂胶完成后，控制所述晶圆逐渐加速转动，令所述光刻胶成膜。
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