[发明专利]一种光学组件、光刻系统以及光刻投影方法

说明书

本发明公开了一种光学组件、光刻系统以及光刻投影方法，通过在基底101上设置反射层102，在基底101背面和/或基底101与反射层102之间设置热电层103，能够通过热电层103将光学组件中的热能转换为电能，从而及时把热能从光学组件中传导出去，降低了光学组件的温度，避免了光学组件因受热变形，有效提高了光学组件的稳定性。

技术领域

本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种光学组件、光刻系统以及光刻投影方法。

背景技术

现有技术中极紫外光刻系统主要可以包括极紫外光源、光照系统、掩膜工作台、投影系统和晶圆工作台，通常极紫外光通过光照系统照射到掩膜工作台上后，再通过投影系统反射到晶圆工作台。因极紫外光的波长约在10纳米～14纳米，波长较短很容易被材料吸收，因此，在极紫外光通过光照系统、掩膜工作台或投影系统中的光学元件例如反射镜时，会有大量的能量损耗，同时产生热能导致反射镜形变，最终影响极紫外光刻系统制程的稳定性。

发明内容

本发明要解决的技术问题是：如何有效的解决光学组件由受热变形导致的稳定性差的问题。

为解决上述技术问题，本发明提供了一种光学组件、光刻系统以及光刻投影方法。

本发明的第一个方面，提供了一种光学组件，其包括：

基底；

反射层，所述反射层位于所述基底上；

热电层，所述热电层位于所述基底背面和/或所述基底与所述反射层之间。

优选的，所述光学组件包括至少一个反射镜元件。

优选的，所述光学组件包括光罩装置或光收集装置。

优选的，形成所述热电层的材料包括石墨烯、碲化铋、碲化铅或硅锗中的任意一种热电材料。

优选的，所述热电层设置为多层，相邻两层热电层之间设置有导热层。

优选的，所述热电层设置为多层，多层热电层连续堆叠设置。

优选的，多层热电层由不同的热电材料组成。

优选的，所述反射层包括布拉格反射层。

优选的，所述光学组件还包括至少一个冷却通道，所述冷却通道被设置为供冷却介质通过。

本发明的第二个方面，提供了一种光刻系统，其包括光源装置、照射装置、图案化装置、投影装置和晶圆支撑装置，其中，

所述照射装置设置为接收并调整所述光源装置生成的辐射束；

所述图案化装置设置为将从所述照射装置接收到的辐射束图案化后，反射到所述投影装置；

所述投影装置设置为将图案化后的辐射束投射到所述晶圆支撑装置，

其中，所述光源装置、照射装置、图案化装置和投影装置中至少一个包括如上任意一项所述的光学组件。

优选的，所述光源装置发出的光源包括极紫外光源。

优选的，所述光刻系统还包括冷却设备，所述冷却设备设置为将所述光源装置、照射装置、图案化装置、投影装置和晶圆支撑装置中的至少一个的温度冷却至预设温度。

本发明的第三个方面，提供了一种光刻投影方法，其包括：

使用照射装置接收并调整光源装置生成的辐射束；

利用图案化装置对从所述照射装置接收到的辐射束图案化，并将图案化后的辐射束反射到投影装置；

利用所述投影装置将图案化后的辐射束投射到晶圆支撑装置，