[发明专利]一种光学组件、光刻系统以及光刻投影方法

权利要求书

1.一种光学组件，其特征在于，包括：

基底；

反射层，所述反射层位于所述基底上；

热电层，所述热电层位于所述基底背面和/或所述基底与所述反射层之间。

2.根据权利要求1所述的光学组件，其特征在于，所述光学组件包括至少一个反射镜元件。

3.根据权利要求1所述的光学组件，其特征在于，所述光学组件包括光罩装置或光收集装置。

4.根据权利要求1所述的光学组件，其特征在于，形成所述热电层的材料包括石墨烯、碲化铋、碲化铅或硅锗中的任意一种热电材料。

5.根据权利要求4所述的光学组件，其特征在于，所述热电层设置为多层，相邻两层热电层之间设置有导热层。

6.根据权利要求4所述的光学组件，其特征在于，所述热电层设置为多层，多层热电层连续堆叠设置。

7.根据权利要求5或6所述的光学组件，其特征在于，多层热电层由不同的热电材料组成。

8.根据权利要求1所述的光学组件，其特征在于，所述反射层包括布拉格反射层。

9.根据权利要求1所述的光学组件，其特征在于，所述光学组件还包括至少一个冷却通道，所述冷却通道被设置为供冷却介质通过。

10.一种光刻系统，其特征在于，包括光源装置、照射装置、图案化装置、投影装置和晶圆支撑装置，其中，

所述照射装置设置为接收并调整所述光源装置生成的辐射束；

所述图案化装置设置为将从所述照射装置接收到的辐射束图案化后，反射到所述投影装置；

所述投影装置设置为将图案化后的辐射束投射到所述晶圆支撑装置，

其中，所述光源装置、照射装置、图案化装置和投影装置中至少一个包括权利要求1-9中任意一项所述的光学组件。

11.根据权利要求10所述的光刻系统，其特征在于，所述光源装置发出的光源包括极紫外光源。

12.根据权利要求11所述的光刻系统，其特征在于，所述光刻系统还包括冷却设备，所述冷却设备设置为将所述光源装置、照射装置、图案化装置、投影装置和晶圆支撑装置中的至少一个的温度冷却至预设温度。

13.一种光刻投影方法，其特征在于，包括：

使用照射装置接收并调整光源装置生成的辐射束；

利用图案化装置对从所述照射装置接收到的辐射束图案化，并将图案化后的辐射束反射到投影装置；

利用所述投影装置将图案化后的辐射束投射到晶圆支撑装置，

其中，所述光源装置、照射装置、图案化装置和投影装置中至少一个包括权利要求1-9中任意一项所述的光学组件。