[发明专利]一种脱细胞真皮基质的辐照保护方法在审
| 申请号： | 202010310864.9 | 申请日： | 2020-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN111481684A | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 蒋彩云;李志宏;柏玮;郭雅楠 | 申请（专利权）人： | 百澳瑞派（天津）生物科技有限公司 |
| 主分类号： | A61L2/08 | 分类号： | A61L2/08;A61L27/36 |
| 代理公司： | 天津盛理知识产权代理有限公司 12209 | 代理人： | 刘丹舟 |
| 地址： | 301714 天津市武清区河西*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 细胞 真皮 基质 辐照 保护 方法 | ||
1.一种脱细胞真皮基质的辐照保护方法，其特征在于：包括以下步骤：
⑴将辐照保护剂加入PBS缓冲液中，超声15-30min，制备成含辐照保护剂的PBS缓冲液。
⑵将脱细胞真皮基质置于上述⑴制备的浸泡液中2-8℃超低压浸泡20-120min，设置压强为200-500Pa，浸泡比例为溶液体积/脱细胞真皮基质面积＝1-10；
⑶然后将真皮基质再次加入上述⑴制备的浸泡液中，抽真空封口包装，湿态保存，保存比例为溶液体积/脱细胞真皮基质面积＝0.2-12；
⑷最后进行低温辐照灭菌，温度为2-8℃，辐照剂量为10-25KGy。
2.根据权利要求1所述的一种脱细胞真皮基质的辐照保护方法，其特征在于：所述辐照保护剂为儿茶素、丹酚酸B、金属硫蛋白、甘露醇、阿魏酸、山竹醇中的一种或任意两种组合。
3.根据权利要求2所述的一种脱细胞真皮基质的辐照保护方法，其特征在于：所述儿茶素的质量浓度为0.01％-0.6％。
4.根据权利要求2所述的一种脱细胞真皮基质的辐照保护方法，其特征在于：所述丹酚酸B的质量浓度为0.1％-0.5％。
5.根据权利要求2所述的一种脱细胞真皮基质的辐照保护方法，其特征在于：所述金属硫蛋白的质量浓度为0.2％-2％。
6.根据权利要求2所述的一种脱细胞真皮基质的辐照保护方法，其特征在于：所述甘露醇的质量浓度为1％-10％。
7.根据权利要求2所述的一种脱细胞真皮基质的辐照保护方法，其特征在于：所述阿魏酸的质量浓度为0.5％-10％。
8.根据权利要求2所述的一种脱细胞真皮基质的辐照保护方法，其特征在于：所述山竹醇的质量浓度为0.1％-2％。
9.根据权利要求2-8任意一项所述的一种脱细胞真皮基质的辐照保护方法，其特征在于：所述的辐照保护剂均为医药级试剂。
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