[发明专利]工作台装置、光刻装置以及物品制造方法

说明书

本发明提供有利于高精度测量工作台位置的技术即工作台装置、光刻装置以及物品制造方法。工作台装置包括：工作台，能够移动；测量部，对上述工作台照射光来测量上述工作台的位置；供给部，向上述光的光路供给气体，以便在上述光路形成朝向沿着上述光路的方向的气体的气流；以及控制部，控制上述供给部，以便根据上述方向上的上述工作台的位置来变更从上述供给部向上述光路供给的气体的流量。

技术领域

本发明涉及工作台装置、光刻装置以及物品制造方法。

背景技术

在半导体装置或液晶面板等的制造所使用的光刻装置中，设有具有能保持基板或原版等并移动的工作台的工作台装置。在工作台装置中，随着近年来的电路图形的微细化，要求工作台的定位精度的提高，为了实现这样的要求，需要高精度地测量工作台的位置。

在工作台的位置的测量中，一般使用激光干涉仪，而对于激光干涉仪，因测量光路上的气体的温度或压力、湿度等的波动(有时称为“气体的波动”)导致的测量光路中的折射率的变化可能成为测量误差的主要原因。在专利文献1中提出了以下装置：通过使气体沿着从激光干涉仪射出的光(激光束)的光路流动，降低该光路上的折射率的变化。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2011－133398号公报

发明内容

发明所要解决的课题

对于沿着从激光干涉仪射出的光的光路使气体流动的方式，通过在朝向工作台的方向被吹出的气体与工作台抵碰，在工作台的周边有气体的气流变化，有时会发生气体的波动。这样在工作台的周边产生的气体的波动随着气体的吹出口与工作台的距离变近而愈发显著，因而会难以高精度地测量工作台的位置。

因而，本发明的目的在于提供有利于高精度测量工作台位置的技术。

用于解决课题的方案

为了达成上述目的，作为本发明的一方面的工作台装置，其特征在于，该工作台装置包括：工作台，该工作台能够移动；测量部，该测量部对上述工作台照射光来测量上述工作台的位置；供给部，该供给部向上述光的光路供给气体，以便在上述光路形成朝向沿着上述光路的方向的气体的气流；以及控制部，该控制部控制上述供给部，以便根据上述方向上的上述工作台的位置来变更从上述供给部向上述光路供给的气体的流量。

为了达成上述目的，作为本发明的一方面的光刻装置，该光刻装置在基板上形成图形，其特征在于，上述光刻装置包括具有能够保持上述基板并移动的工作台的工作台装置，上述工作台装置包括：工作台，该工作台能够移动；测量部，该测量部对上述工作台照射光来测量上述工作台的位置；供给部，该供给部向上述光的光路供给气体，以便在上述光路形成朝向沿着上述光路的方向的气体的气流；以及控制部，该控制部控制上述供给部，以便根据上述方向上的上述工作台的位置来变更从上述供给部向上述光路供给的气体的流量。

为了达成上述目的，作为本发明的一方面的物品制造方法，其特征在于，由经过形成工序和加工工序的基板制造物品，该形成工序使用光刻装置在基板上形成图形，该加工工序对在上述形成工序中形成有图形的上述基板进行加工，上述光刻装置包括具有能够保持上述基板并移动的工作台的工作台装置，上述工作台装置包括：工作台，该工作台能够移动；测量部，该测量部对上述工作台照射光来测量上述工作台的位置；供给部，该供给部向上述光的光路供给气体，以便在上述光路形成朝向沿着上述光路的方向的气体的气流；以及控制部，该控制部控制上述供给部，以便根据上述方向上的上述工作台的位置来变更从上述供给部向上述光路供给的气体的流量。

本发明的其他目的或者其他方面将在以下通过参照附图进行说明的优选实施方式而变得明了。

发明的效果

根据本发明，例如可提供有利于高精度测量工作台位置的技术。