[发明专利]一种测量液晶器件实际反射率的方法与装置

说明书

一种基于相干原理的液晶器件反射率测量装置，包括光源、分束器、光强度探测器、装置反射镜与待测量器件；光源、分束器、光强度探测器、装置反射镜与待测量器件组成如下光路，光源经过分束器入射至液晶器件，分束器的另一束光经装置反射镜与经液晶器件的反射光再次经过分束器后被光强度探测器测量，所述光源为宽频光源。本发明从装置到方法上给出了对现有的一种测量反射式液晶器件反射率的方法的改进。采用具有一定波长分布的光源经过分束器入射至液晶器件，经反射光再次经过分束器后被光强度探测器测量并经傅氏变换，能准确和方便推导出探测液晶器件各反射层的准确的反射率。

技术领域

本发明涉及一种测量液晶器件实际反射率的方法与装置。

背景技术

图1给出了一个反射式液晶器件的基本结构，它主要包括玻璃前板，ITO共电极，液晶导向层，液晶层，液晶导向层和带有像素电极的背板。该结构中的每一个部分由不同的材料组成，各材料之间的折射率存在差异。因此，入射光在经过每个组成部分交界区域的时候都会由于该折射率差异，产生一部分反射。例如，在前板玻璃和ITO电极交界处反射的光就不会进入液晶层，被液晶调制，这影响了器件的性能。为了降低这种反射，往往在不同材料交接区域进行光学镀膜或折射率匹配，将反射降至最低。但是，由于镀膜工艺和折射率匹配工艺的缺陷，实际器件中还是会产生一定反射。这不仅会影响此类液晶器件的光学效率，也会对液晶光场调控质量造成影响。

在对此类液晶器件进行定量分析的时候，一般需要对其实际反射率，即硅基背板的反射率，进行测量，以判定此类器件的实际光学效率。但是由于上述提及的反射，此类液晶器件的实际反射率的测量也存在困难。本发明介绍了一种测量此类液晶器件实际反射率的方法。

图2给出了目前最常见的一种测量反射式液晶器件反射率的方法。单一波长的激光光源经过分束器入射至液晶器件，反射光再次经过分束器后被光强度探测器测量，设测量结果为P1。将被测液晶器件置换为一个反射率已知的平面镜，再次在探测器读取数据P2。则可推导出探测液晶器件的反射率R1＝P1/P2*R2,R2为平面镜的反射率。

由图可知该种方法无法测量器件的实际反射率，一部分未经过液晶层的反射光也会被探测到，对测量结果造成误差。同时，不同层的反射光之间还会产生干涉。因此，当光源波长发生变化的时候，反射率测量结果也不相同，对分析造成困难。

同时，该方法中也无法分析出其他各层交界区域处的反射率，无法对器件设计的优化提供指导意见。

发明内容

本发明目的是，可以准确测量出硅基背板上的实际反射率，同时还可以测量出其他各层交界区域处的反射率。

本发明技术方案是，一种基于相干原理的液晶器件反射率测量装置，其特征是，包括光源、分束器、光强度探测器、装置反射镜与待测量器件；光源、分束器、光强度探测器、装置反射镜与待测量器件组成如下光路，光源经过分束器入射至液晶器件，分束器的另一束光经装置反射镜与经液晶器件的反射光再次经过分束器后被光强度探测器测量，所述光源为宽频光源。光源为一宽频光源，其中心波长为待测液晶器件设计工作波长。频谱带宽为100nm左右较好。

进一步，入射光偏振方向与待测液晶器件工作偏振方向一致。