[发明专利]清洗系统及清洗方法有效
申请号: | 202010284830.7 | 申请日: | 2020-04-13 |
公开(公告)号: | CN111330905B | 公开(公告)日: | 2021-06-29 |
发明(设计)人: | 王荣东;谢淳;杨红义;姚泽文;朴君;杜海鸥;李君瑜 | 申请(专利权)人: | 中国原子能科学研究院 |
主分类号: | B08B3/08 | 分类号: | B08B3/08;B08B3/10;B08B13/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张成新 |
地址: | 102413 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洗 系统 方法 | ||
一种清洗系统,包括:输运模块,被配置为使移动过程中的待清洗设备与空气隔离;第一清洗模块,具有待清洗设备的容置空间和第一清洗剂,包括:输出管路,用于第一清洗剂和杂质的排放;及加热系统,使第一清洗模块维持在预设温度;回收模块,通过输出管路与第一清洗模块连通时,依次收集第一清洗剂和待清洗设备的杂质;第二清洗模块,具有待清洗设备的容置空间和第二清洗剂;夹持模块,被配置为驱动待清洗设备移动;以及调节模块,被配置为提供控制夹持模块移动的容置空间。
技术领域
本发明的实施例涉及反应堆设备清洗技术领域,具体涉及一种清洗系统及清洗方法。
背景技术
在钠作为冷却剂的反应堆运行过程中,钠回路中使用的设备在更换和检修时均需要进行除钠的清洗过程,对粘钠设备的清洗要求尽可能的完全去除设备上的钠,尽量减少需要进一步处理的废物,避免钠参与化学反应的产物腐蚀设备,避免产生氢爆炸等。
目前对粘钠设备的清洗过程通常在清洗阱内进行,由于在清洗过程中,粘钠设备表面的钠通过参与化学反应的方式去除,因此需要持续保持清洗阱内微正压和惰性气氛状态,以实现对清洗过程的控制;另外,存在通过真空的清洗容器内钠蒸馏的方式清洗粘钠设备的方法,但是该方法并不能完全去除钠,且该方法需要对清洗容器进行抽真空。现有技术中粘钠设备的清洗系统通常需配备真空的清洗阱或者清洗容器,上述清洗装置并不能完全去除钠,而真空环境的制备增加了粘钠设备的清洗难度,并且为降低安全隐患需要气体监测装置持续对清洗过程中产生的气体进行监测。
发明内容
根据本发明的实施例,提供了一种清洗系统用于清洗粘钠设备,以解决上述现有技术中存在的问题的至少一个方面。
一种清洗系统,包括:输运模块,被配置为使移动过程中的待清洗设备与空气隔离;第一清洗模块,具有待清洗设备的容置空间和第一清洗剂,包括:输出管路,用于第一清洗剂和杂质的排放;及加热系统,使第一清洗模块维持在预设温度;回收模块,通过输出管路与第一清洗模块连通时,收集第一清洗剂和待清洗设备的杂质;第二清洗模块,具有待清洗设备的容置空间和第二清洗剂;夹持模块,被配置为驱动待清洗设备移动;以及调节模块,被配置为提供控制夹持模块移动的容置空间。
在一些实施例中,第一清洗剂被配置为使待清洗设备的杂质与空气隔离,第一清洗模块内的第一清洗剂被配置为完全浸没待清洗设备。
在一些实施例中,输运模块还包括第一清洗剂,第一清洗剂覆盖待清洗设备的表面杂质。
在一些实施例中,第一清洗模块还包括清洗槽,清洗槽提供待清洗设备的容置空间,其径向截面面积沿轴向向下逐渐减小,清洗槽与输出管路可拆卸连接。
在一些实施例中,清洗槽开设出口,出口包括:用于第一清洗剂排放的清洗剂出口;及用于待清洗设备的杂质排放的杂质出口;其中,第一清洗剂密度小于待清洗设备的杂质密度时,清洗剂出口位置高于杂质出口的位置。
在一些实施例中,第一清洗模块还包括导流管,导流管的一端与清洗剂出口和杂质出口固定连接,导流管另一端可拆卸的连接输出管路,导流管的中部设置控制阀。
在一些实施例中,回收模块包括:第一回收装置,通过输出管路与清洗剂出口连接,第一回收装置为密封装置;以及第二回收装置,通过输出管路与杂质出口连接,第二回收装置采用液态金属储罐。
在一些实施例中,夹持模块包括:抓手部,被配置为用于待清洗设备的抓取和释放;以及与抓手部活动连接的支撑部,支撑部被配置为驱动和支撑抓手部,使抓手部至少可在水平或竖直方向上移动。
在一些实施例中,调节模块包括:监测平台,用于对第一清洗模块和第二清洗模块的清洗过程的监测;以及操作平台,用于提供操作夹持模块的容置空间。
在一些实施例中,监测平台为高度可调节的刚性支架结构,操作平台为可拆卸的刚性平台结构。
在一些实施例中,第二清洗模块还包括第三清洗剂。
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