[发明专利]掩膜板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 202010281455.0 申请日: 2020-04-10
公开(公告)号: CN111809144B 公开(公告)日: 2023-09-12
发明(设计)人: 曾辉;胡君;朱佳玲 申请(专利权)人: 上海和辉光电股份有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 上海隆天律师事务所 31282 代理人: 钟宗
地址: 201506 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 掩膜板 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种掩膜板,其特征在于,包括:

框架,所述框架设有一镂空形成的蒸镀区域;

凸台,形成于所述框架的一侧,所述凸台的沿环绕所述蒸镀区域的矩形轨迹延伸,所述凸台的至少一组对边的表面设有平行于所述对边的凹槽;

填充于所述凹槽的金属层,所述金属层的表面与所述凸台的表面齐平;以及

至少一个掩膜条,跨接于所述凸台的所述一组对边并且局部覆盖所述蒸镀区域,其中,所述掩膜条与所述金属层由同种金属制成,于所述掩膜条与所述凸台的所述金属层的交叉处焊接所述掩膜条和所述金属层;所述金属层的厚度为1μm~1000μm;

所述凸台的材料为SUS不锈钢,所述掩膜条和所述金属层的材料为Invar36合金。

2.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述金属层的长度为1mm~2000mm,所述金属层的宽度为1mm~50mm。

3.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述金属层通过化学沉积或热喷涂形成。

4.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述掩膜条的数量大于三条。

5.一种掩膜板制造方法,其特征在于,包括:

提供一框架,所述框架包括一蒸镀区域;

于所述框架的一侧,沿环绕所述蒸镀区域的矩形轨迹延伸形成一凸台;

于所述凸台的至少一组对边的表面开设平行于所述对边的凹槽;

于所述凹槽填充金属以形成金属层,其中,所述金属层的表面与所述凸台的表面齐平;

将至少一个掩膜条跨接于所述凸台的所述一组对边并且局部覆盖所述蒸镀区域,其中,所述掩膜条与所述金属层由同种金属制成;以及

于所述掩膜条与所述凸台的所述金属层的交叉处焊接所述掩膜条和所述金属层

所述凸台的材料为SUS不锈钢,所述掩膜条和所述金属层的材料为invar36合金。

6.根据权利要求5所述的掩膜板制造方法,其特征在于,通过电镀于所述凹槽中形成所述金属层。

7.根据权利要求5所述的掩膜板制造方法,其特征在于,通过热喷涂于所述凹槽中形成所述金属层。

8.根据权利要求5所述的掩膜板制造方法,其特征在于,通过化学沉积于所述凹槽中形成所述金属层。

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