[发明专利]一种用于光刻工艺的气压控制系统及方法、涂胶显影系统

权利要求书

1.一种用于光刻工艺的气压控制系统，其特征在于，包括：

外部气压检测装置，用于实时检测光刻设备外部环境的外部气压值，以及用于将所述外部气压值反馈给控制器；

内部气压检测装置，用于实时检测风机过滤单元出口的内部气压值，以及用于将所述内部气压值反馈给控制器；

控制器，用于利用得到的所述外部气压值和所述内部气压值确定压差，以及根据所述压差实时控制风机过滤单元变换器和/或风机；

所述内部气压检测装置，包括载物台区气压检测装置和多功能区气压检测装置；

所述载物台区气压检测装置，用于实时检测载物台区的风机过滤单元出口的第一气压值，以及将所述第一气压值反馈给控制器；

所述多功能区气压检测装置，用于实时检测多功能区的风机过滤单元出口的第二气压值，以及将所述第二气压值反馈给控制器；

所述控制器，用于利用得到的所述第一气压值和所述第二气压值确定第一内部压差，以及根据所述第一内部压差实时控制载物台区和/或多功能区的风机过滤单元变换器。

2.根据权利要求1所述的用于光刻工艺的气压控制系统，其特征在于，

所述内部气压检测装置，还包括处理区气压检测装置；

所述处理区气压检测装置，用于实时检测处理区的风机过滤单元出口的第三气压值，以及将所述第三气压值反馈给控制器；

所述控制器，用于利用得到的所述第三气压值和所述第二气压值确定第二内部压差，以及根据所述第二内部压差实时控制处理区和/或多功能区的风机过滤单元变换器。

3.根据权利要求2所述的用于光刻工艺的气压控制系统，其特征在于，

所述内部气压检测装置，还包括交互区气压检测装置；

所述交互区气压检测装置，用于实时检测交互区的风机过滤单元出口的第四气压值，以及将所述第四气压值反馈给控制器；

所述控制器，用于利用接收的所述第四气压值和所述第三气压值确定第三内部压差，以及根据所述第三内部压差实时控制交互区和/或处理区的风机过滤单元变换器。

4.根据权利要求3所述的用于光刻工艺的气压控制系统，其特征在于，光刻设备正常工作时，满足：

第一气压值≤第二气压值≤第三气压值≥第四气压值时。

5.根据权利要求4所述的用于光刻工艺的气压控制系统，其特征在于，

所述处理区气压检测装置，还用于检测和向控制器反馈当前机械工序气压、旋转工序气压及下一机械工序气压；

所述控制器，还用于根据得到的当前机械工序气压、旋转工序气压及下一机械工序气压控制处理区的风机过滤单元变换器，以使当前机械工序气压、旋转工序气压及下一机械工序气压依次增大。

6.根据权利要求5所述的用于光刻工艺的气压控制系统，其特征在于，光刻设备正常工作时，满足：

当前机械工序气压≤旋转工序气压≤下一机械工序气压。

7.根据权利要求6所述的用于光刻工艺的气压控制系统，其特征在于，

所述控制器，还用于在补正压差超过预设值时，向所述光刻设备发出连锁命令；所述补正压差为第一内部压差或第二内部压差或第三内部压差或所述外部气压值和所述内部气压值之间的压差。

8.一种用于光刻工艺的气压控制方法，其特征在于，包括如下步骤：

实时检测光刻设备外部环境的外部气压值和风机过滤单元出口的内部气压值；

利用得到的所述外部气压值和所述内部气压值确定压差；

根据所述压差实时控制风机过滤单元变换器和/或风机；

实时检测载物台区的风机过滤单元出口的第一气压值和多功能区的风机过滤单元出口的第二气压值；

利用得到的所述第一气压值和所述第二气压值确定第一内部压差；

根据所述第一内部压差实时控制载物台区和/或多功能区的风机过滤单元变换器。