[发明专利]电路板的通槽的加工方法在审

专利信息
申请号: 202010273504.6 申请日: 2020-04-09
公开(公告)号: CN111479389A 公开(公告)日: 2020-07-31
发明(设计)人: 马洪伟;张志礼 申请(专利权)人: 江苏普诺威电子股份有限公司
主分类号: H05K3/00 分类号: H05K3/00;H05K3/46;H05K3/42
代理公司: 昆山中际国创知识产权代理有限公司 32311 代理人: 盛建德;张小培
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 电路板 加工 方法
【权利要求书】:

1.一种电路板的通槽的加工方法,其特征在于:包括以下步骤:

步骤1)、准备覆铜基板(B0),所述覆铜基板(B0)上具有预设的开孔区域和开槽区域;

步骤2)、先在所述覆铜基板(B0)的开孔区域上钻出通孔(2),然后再对带有通孔(2)的所述覆铜基板(B0)进行化学沉铜、及电镀工艺处理,以实现在所述覆铜基板(B0)的第一铜箔(10)表面和所述通孔(2)内壁上均分别电镀上一层第二铜箔(3),随后再向所述通孔(2)中塞满树脂(4),得到第一基板(B1);

步骤3)、通过激光烧蚀技术在所述第一基板(B1)的开槽区域上烧蚀出通槽(5);

步骤4)、对带有通槽(5)的所述第一基板(B1)进行化学沉铜、及电镀工艺处理,以实现在所述第二铜箔(3)表面、所述树脂(4)端面、以及所述通槽(5)内壁上均分别电镀上一层第三铜箔(6),完成对电路板的通槽的加工制作。

2.根据权利要求1所述的电路板的通槽的加工方法,其特征在于:上述步骤2)中,在所述覆铜基板(B0)的开孔区域上采用机械钻孔方式钻出所述通孔(2);

位于所述第一铜箔(10)表面上的第二铜箔(3)和位于所述通孔(2)内壁上的第二铜箔(3)相齐平衔接;

另外,所述通孔(2)中的树脂(4)亦与所述第二铜箔(3)相齐平。

3.根据权利要求1所述的电路板的通槽的加工方法,其特征在于:在上述步骤2)和步骤3)之间还具有步骤3a),其具体为:通过化学蚀刻技术将所述第一基板(B1)开槽区域上的所述第二铜箔(3)和所述第一铜箔(10)蚀刻掉。

4.根据权利要求1所述的电路板的通槽的加工方法,其特征在于:分别位于所述第二铜箔(3)表面、所述树脂(4)端面、以及所述通槽(5)内壁上的所述第三铜箔(6)相齐平衔接。

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