[发明专利]蒸发源装置在审

专利信息
申请号: 202010259716.9 申请日: 2020-04-03
公开(公告)号: CN111334758A 公开(公告)日: 2020-06-26
发明(设计)人: 汪国杰 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: C23C14/26 分类号: C23C14/26
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 徐世俊
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 蒸发 装置
【说明书】:

本申请提供一种蒸发源装置,本申请中每一排中主坩埚和辅助坩埚的喷嘴位于相同高度,线性交替排列,主坩埚和辅助坩埚的蒸镀区域完全重合,解决了掺杂蒸镀多种材料的膜层均一性差及膜层的性质不同的技术问题,从而改善OLED器件的显示质量和寿命,提高OLED器件的良率。

技术领域

发明涉及显示面板制造技术领域,尤其涉及一种蒸发源装置。

背景技术

蒸镀制程在液晶显示器组件、半导体组件及太阳能电池组件制作过程中受到了广泛的应用,为了将制作过程中所使用的蒸镀材料均匀涂布于基板,一般是将基板设置于坩埚喷嘴的上方,借助加热丝将坩埚内的蒸镀材料加热,形成蒸汽,以均匀地附着在基板上,获得高品质的膜层。

如图1和图2所示,对于需要共混,掺杂蒸镀多种材料的膜层如主发光材料和辅助发光材料,需要主坩埚101和辅助坩埚102蒸镀成膜。主坩埚101和辅助坩埚102分别线性排列在两排,主坩埚101蒸镀区域103,辅助坩埚102蒸镀区域104,蒸镀区域103和蒸镀区域104的重叠区域1034,重叠区域1034对于基板105呈现主发光材料和辅助发光材料,重叠区域1034以外的蒸镀区域103对于基板105呈现主发光材料,重叠区域1034以外的蒸镀区域104对于基板105呈现辅助发光材料,这两个区域只包含某一种材料,导致基板105成膜的均一性和膜层的品质较差,进而影响OLED器件的显示质量和寿命,随着蒸发源的数量增加,这种由蒸发源导致的缺陷会更加明显。

综上所述,现有技术的线性坩埚之间有一定的距离,导致除了多种材料共混的部分外,还存在只包含某一种材料的部分,这样降低了成膜的均一性和膜层的品质的技术问题。

发明内容

本发明提供一种蒸发源装置,能够解决现有技术的线性坩埚之间有一定的距离,导致除了多种材料共混的部分外,还存在只包含某一种材料的部分,这样降低了成膜的均一性和膜层的品质的技术问题。

为解决上述问题,本发明提供的技术方案如下:

本发明提供一种蒸发源装置,包括主坩埚和辅助坩埚,所述主坩埚的喷嘴和所述辅助坩埚的喷嘴位于相同高度,且线性交替设置。

根据本发明一优选实施例,所述主坩埚和所述辅助坩埚的形状均为长方体,每个所述长方体均设置有加热装置,所述加热装置设置于所述长方体底部和/或侧部。

根据本发明一优选实施例,所述加热装置包括多条加热丝。

根据本发明一优选实施例,所述喷嘴呈柱状,所述喷嘴与所连接坩埚主体表面形成有夹角α,且0°<α≤90°。

根据本发明一优选实施例,所述主坩埚和所述辅助坩埚形状和大小相同,沿纵向交替设置。

根据本发明一优选实施例,所述主坩埚和所述辅助坩埚均设置有1个喷嘴,所述喷嘴沿着纵向等间距设置。

根据本发明一优选实施例,任意相邻两个所述喷嘴的中心间距为5mm到15mm范围之间。

根据本发明一优选实施例,所述主坩埚和所述辅助坩埚分层设置,所述主坩埚设置在所述辅助坩埚下方,所述辅助坩埚呈线性间隔设置于所述主坩埚表面,且所述主坩埚的喷嘴位于相邻所述辅助坩埚之间;

或者,所述辅助坩埚设置在所述主坩埚下方,所述主坩埚呈线性间隔设置于所述辅助坩埚表面,且所述辅助坩埚的喷嘴位于相邻所述主坩埚之间。

根据本发明一优选实施例,所述主坩埚的喷嘴和所述辅助坩埚的喷嘴为中空的圆柱体。

根据本发明一优选实施例,所述主坩埚和所述辅助坩埚均设有两个或两个以上的喷嘴,且所述主坩埚的喷嘴和所述辅助坩埚的喷嘴排列方式相同。

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