[发明专利]蒸发源装置在审
| 申请号： | 202010259716.9 | 申请日： | 2020-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN111334758A | 公开（公告）日： | 2020-06-26 |
| 发明（设计）人： | 汪国杰 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/26 | 分类号： | C23C14/26 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 徐世俊 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蒸发 装置 | ||
1.一种蒸发源装置，其特征在于，包括主坩埚和辅助坩埚，所述主坩埚的喷嘴和所述辅助坩埚的喷嘴位于相同高度，且线性交替设置。
2.根据权利要求1所述的蒸发源装置，其特征在于，所述主坩埚和所述辅助坩埚的形状均为长方体，每个所述长方体均设置有加热装置，所述加热装置设置于所述长方体底部和/或侧部。
3.根据权利要求2所述的蒸发源装置，其特征在于，所述加热装置包括多条加热丝。
4.根据权利要求1所述的蒸发源装置，其特征在于，所述喷嘴呈柱状，所述喷嘴与所连接坩埚主体表面形成有夹角α，且0°＜α≤90°。
5.根据权利要求1所述的蒸发源装置，其特征在于，所述主坩埚和所述辅助坩埚形状和大小相同，沿纵向交替设置。
6.根据权利要求5所述的蒸发源装置，其特征在于，所述主坩埚和所述辅助坩埚均设置有1个喷嘴，所述喷嘴沿着纵向等间距设置。
7.根据权利要求6所述的蒸发源装置，其特征在于，任意相邻两个所述喷嘴的中心间距为5mm到15mm范围之间。
8.根据权利要求1所述的蒸发源装置，其特征在于，所述主坩埚和所述辅助坩埚分层设置，所述主坩埚设置在所述辅助坩埚下方，所述辅助坩埚呈线性间隔设置于所述主坩埚表面，且所述主坩埚的喷嘴位于相邻所述辅助坩埚之间；
或者，所述辅助坩埚设置在所述主坩埚下方，所述主坩埚呈线性间隔设置于所述辅助坩埚表面，且所述辅助坩埚的喷嘴位于相邻所述主坩埚之间。
9.根据权利要求8所述的蒸发源装置，其特征在于，所述主坩埚的喷嘴和所述辅助坩埚的喷嘴为中空的圆柱体。
10.根据权利要求1所述的蒸发源装置，其特征在于，所述主坩埚和所述辅助坩埚均设有两个或两个以上的喷嘴，且所述主坩埚的喷嘴和所述辅助坩埚的喷嘴排列方式相同。
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