[发明专利]显示模组和显示模组的制备方法有效

专利信息
申请号: 202010245884.2 申请日: 2020-03-31
公开(公告)号: CN111402739B 公开(公告)日: 2023-03-24
发明(设计)人: 陈辉 申请(专利权)人: 云谷(固安)科技有限公司
主分类号: G09F9/30 分类号: G09F9/30
代理公司: 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 代理人: 范坤坤
地址: 065500 河*** 国省代码: 河北;13
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 模组 制备 方法
【说明书】:

发明公开了一种显示模组和显示模组的制备方法。其中,显示模组具有用于设置屏下器件的挖孔区,所述显示模组包括:显示面板,包括显示面;至少一层遮光层,位于所述显示面板的远离所述显示面的一侧,且在所述显示面板上的正投影区域与所述挖孔区在所述显示面板上的正投影区域交叠。本发明改善了mura现象。

技术领域

本发明实施例涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示模组和显示模组的制备方法。

背景技术

随着全面屏的发展,屏下器件如屏下指纹和屏下摄像头等的设计成为了研究热点。但是,具有屏下器件的显示屏在显示画面时,通常会出现亮度均匀性差的问题,即mura现象。

发明内容

有鉴于此,本发明的目的是提出一种显示模组和显示模组的制备方法,以改善mura现象。

为实现上述目的,本发明采用如下技术方案:

一方面,本发明实施例提供了一种显示模组,具有用于设置屏下器件的挖孔区,所述显示模组包括:

显示面板,包括显示面;

至少一层遮光层,位于所述显示面板的远离所述显示面的一侧,且在所述显示面板上的正投影区域与所述挖孔区在所述显示面板上的正投影区域交叠。

可选地,所述遮光层在所述显示面板上的正投影区域与所述挖孔区在所述显示面板上的正投影区域重合,或者所述挖孔区在所述显示面板上的正投影区域位于所述遮光层在所述显示面板上的正投影区域内。从而可遮挡照射到挖孔区的全部的光,更好地改善了mura现象。

可选地,所述显示模组还包括保护层,位于所述显示面板的远离所述显示面的一侧,所述保护层包括开口,所述开口限定出所述挖孔区。设置保护层一方面可以通过设计开口限定出挖孔区,另一方面可以对屏体(显示面板)起到保护作用。可选地,所述遮光层贴附于所述保护层上和/或所述显示面板上,提供了遮光层的多种可实施方式,可根据实际情况进行设置。

可选地,所述遮光层贴附于所述保护层上和/或所述显示面板上。提供了遮光层的多种可实施方式。

可选地,所述遮光层包括黑色遮光层或减反射膜;优选地,所述黑色遮光层为黑色遮光胶带。黑色遮光层可实现对光的吸收,可有效防止到达遮光层的光通过透射或反射照射到薄膜晶体管。黑色遮光胶带可在后续组装屏下器件时便于撕下遮光层。减反射膜可减少对光的反射率或者增大对光的透射率,可以减少由显示面板的显示面方向发来的光在显示面板的位于挖孔区的交界面处的反射。

可选地,所述减反射膜为紫外光波段减反射膜;优选地,所述紫外光波段减反射膜为超低防反射纳米光学膜。紫外光波段减反射膜可以减少显示面板的位于挖孔区的交界面对紫外线的反射,从而有效避免紫外线对薄膜晶体管的影响,改善mura现象。

可选地,至少一层黑色遮光层贴附于所述保护层上,且至少一层减反射膜贴附于所述显示面板上。至少一层的黑色遮光层和减反射膜分别贴附于保护层和显示面板上,能起到更优异的效果。

另一方面,本发明实施例提供了一种显示模组的制备方法,所述显示模组具有用于设置屏下器件的挖孔区,所述显示模组的制备方法包括:

制备显示面板,其中,所述显示面板包括显示面;

在所述显示面板的远离所述显示面的一侧设置至少一层遮光层,其中,所述遮光层在所述显示面板上的正投影区域与所述挖孔区在所述显示面板上的正投影区域交叠。该显示模组的制备方法改善了mura现象,提高了产品良率。

可选地,制备显示面板包括:

制备阵列基板;

在所述阵列基板的一侧制备发光器件;

在所述发光器件远离所述阵列基板的一侧涂覆紫外固化胶;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于云谷(固安)科技有限公司,未经云谷(固安)科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010245884.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top