[发明专利]基板清洗装置及方法、基板处理装置及方法

权利要求书

1.一种基板清洗装置，对基板的背面进行清洗，其特征在于，

具有：

旋转保持单元，保持基板且使所述基板旋转，以及

清洗单元，对被所述旋转保持单元保持的基板的背面进行清洗；

所述旋转保持单元包括：

旋转构件，被设置为能够围绕旋转轴线旋转，以及

保持构件，以能够保持基板的方式设置在所述旋转构件上；

所述清洗单元包括：

清洗用具，被设置为能够通过研磨来除去基板的背面的异物，

移动装置，使所述清洗用具一边按压被所述保持构件保持的基板的背面一边移动，以及

清洗刷，进一步对通过所述清洗用具清洗后或清洗中的基板的背面进行清洗。

2.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，

所述保持构件与基板的外周端部抵接来保持基板。

3.根据权利要求1或2所述的基板清洗装置，其特征在于，所述清洗单元还包括清洗液供给部，所述清洗液供给部向通过所述清洗用具清洗后或清洗中的基板的背面供给清洗液。

4.一种基板处理装置，其特征在于，

具有：

膜形成单元，通过将涂敷液供给至基板的被处理面来在被处理面上形成涂敷膜；

除去单元，向基板的周缘部供给除去液，所述除去液除去由所述膜形成单元在基板的被处理面的周缘部形成的涂敷膜；以及

权利要求1至3中任一项所述的基板清洗装置，对通过所述除去单元除去被处理面的周缘部的涂敷膜后的基板的背面进行清洗。

5.一种基板清洗方法，对基板的背面进行清洗，其特征在于，

包括：

通过旋转保持单元保持基板且使所述基板旋转的步骤，以及

通过清洗单元对被所述旋转保持单元保持的基板的背面进行清洗的步骤；

保持所述基板且使所述基板旋转的步骤包括：

通过使设置在旋转构件上的保持构件保持基板的步骤，以及

使所述旋转构件围绕旋转轴线旋转的步骤；

进行清洗的步骤包括：

通过移动装置使清洗用具一边按压被所述保持构件保持的基板的背面一边移动的步骤，

通过所述清洗用具进行研磨来除去基板的背面的异物的步骤，以及

通过清洗刷进一步对通过所述清洗用具清洗后或清洗中的基板的背面进行清洗的步骤。

6.一种基板处理方法，其特征在于，

包括：

通过向基板的被处理面供给涂敷液来在被处理面上形成涂敷膜的步骤；

向基板的周缘部供给用于将在基板的被处理面的周缘部形成的涂敷膜除去的除去液的步骤；以及

利用权利要求5所述的基板清洗方法对除去了被处理面的周缘部的涂敷膜后的基板的背面进行清洗的步骤。