[发明专利]一种应用于硅片溅射台的分离装置及分离方法

权利要求书

1.一种应用于硅片溅射台的分离装置，其中，包括：

基座；

第一升降结构，所述第一升降结构安装在所述基座上；

托盘，所述托盘与所述第一升降结构的升降端相连；

调整机构，所述机构机构为中空结构，所述第一升降结构的升降端穿过所述调整机构，所述调整机构具有：

滚齿轮，所述滚齿轮安装在所述调整机构的下端；

传动齿轮，所述传动齿轮动力连接所述滚齿轮；

滚珠丝杆，所述滚珠丝杆连接所述传动齿轮；

套座，所述套座套接所述滚珠丝杆；

调节件，所述调节件垂直连接所述套座，所述调节件可在所述调整机构上滑动；

驱动齿轮，所述驱动齿轮为中空结构，所述第一升降结构的升降端同样穿过所述驱动齿轮，所述驱动齿轮上端面具有：

连接齿，所述连接齿径向均布分布在所述驱动齿轮上端面，所述连接齿啮合所述滚齿轮；

驱动装置，所述驱动装置安装在所述基座上，所述驱动装置上具有：

动力齿轮，所述动力齿轮安装在所述驱动装置的旋转动力端，所述动力齿轮啮合所述驱动齿轮；

分离机构，所述分离机构设置在所述托盘上方。

2.根据权利要求1所述应用于硅片溅射台的分离装置，其中，所述滚齿轮呈环形结构排列在所述调整机构下端。

3.根据权利要求1所述应用于硅片溅射台的分离装置，其中，所述调整机构为圆盘状，所述调整件径向均匀分布在所述调整机构上。

4.根据权利要求1所述应用于硅片溅射台的分离装置，其中，所述调整机构还具有：

齿柱，所述齿柱通过轴承安装在所述调整机构中，所述齿柱啮合所述滚齿轮与所述传动齿轮。

5.根据权利要求1所述应用于硅片溅射台的分离装置，其中，所述调整机构还具有：

橡胶结构，所述橡胶结构设置在所述调整件表面上，用于接触硅片。

6.根据权利要求1所述应用于硅片溅射台的分离装置，其中，所述一种应用于硅片溅射台的分离装置还包括：

第二升降结构，所述第二升降结构的下端连接所述分离机构。

7.根据权利要求1所述应用于硅片溅射台的分离装置，其中，所述分离机构包括：

第三升降结构；

升降板，所述升降板连接所述第三升降结构；

吸盘，所述吸盘安装在所述升降板底部；

卷管，所述卷管的下端连通所述吸盘；

气流转换器，所述气流转换器连通所述卷管的上端；

吹吸装置，所述吹吸装置连通所述气流转换器；

分解架，所述分解架为中空结构，所述第三升降结构的伸缩端与所述卷管穿过所述分解架，所述分离机构通过管臂固定连接所述分解架，所述分解架半包围所述升降板；

气嘴，所述气嘴设置在所述分解架底部朝内侧的端面上，所述气嘴连通所述吹吸装置。

8.根据权利要求7所述应用于硅片溅射台的分离装置，其中，所述卷管内的管壁上设有吸尘触须。

9.根据权利要求7所述应用于硅片溅射台的分离装置，其中，所述气流装置器具有：

气腔，所述气腔连通所述吹吸装置；

吹气口，所述吹气口连通所述气腔，所述吹气口连通所述气嘴；

吸气口，所述吸气口连通所述气腔，所述吹气口连通所述卷管；

外挡板，所述外挡板活动连接在所述吹气口设有的凹台上，使所述外挡板只向外转动；

内挡板，所述内挡板可伸缩连接在所述吸气口上，使所述内挡板只向内伸缩。

10.根据权利要求7所述应用于硅片溅射台的分离装置，其中，所述气嘴具有：

嘴口；

拉杆，所述拉杆设置在所述嘴口两侧；

挡气板，所述挡气板可上下滑动连接在所述嘴口上下两侧；

连接杆，所述连接杆的一端活动连接所述挡气板，所述连接杆的另一端活动连接所述拉杆。