[发明专利]一种显示面板的制备方法、显示面板

权利要求书

1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

提供一玻璃基板，将所述玻璃基板区分为至少两个显示面板区域以及相邻两个显示面板区域之间的连接区域；

在所述玻璃基板上制备一缓冲层；

在所述连接区域的缓冲层上设置至少一沟槽；以及

在所述缓冲层上制备至少一膜层，且延伸至所述沟槽内。

2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，

在所述玻璃基板上制备一缓冲层的步骤之前，还包括

在所述玻璃基板上制备一金属遮光层的步骤；

所述缓冲层设于所述玻璃基板及金属遮光层上。

3.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，

在所述缓冲层上制备至少一膜层的步骤，具体包括：

在所述缓冲层上表面制备栅极绝缘层；

在所述栅极绝缘层上表面制备介电层；以及

在所述介电层上表面制备钝化层。

4.根据权利要求3所述的显示面板的制备方法，其特征在于，

在所述缓冲层上表面制备栅极绝缘层的步骤之前，还包括

在所述缓冲层上制备多晶硅层的步骤；以及

在所述缓冲层上表面制备栅极绝缘层的步骤之后，还包括

在所述栅极绝缘层上制备栅电极层的步骤。

5.根据权利要求3所述的显示面板的制备方法，其特征在于，

在所述栅极绝缘层上表面制备介电层的步骤之后，还包括

在所述介电层上制备源漏极层及公共电极层的步骤。

6.根据权利要求3所述的显示面板的制备方法，其特征在于，

在所述介电层上表面制备钝化层的步骤之后，还包括

在所述钝化层上制备像素电极层的步骤。

7.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，

在所述缓冲层上制备至少一膜层的步骤之后，还包括

采用曝光、蚀刻工艺去除所述钝化层以及所述介电层与所述沟槽相对的部分，形成贯穿所述钝化层以及所述介电层的开口区。

8.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，

所述开口区的深度范围为0.8-1.1μm；和/或，

所述开口区的宽度范围为1.5-2.5μm。

9.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述沟槽的纵向截面的形状为矩形或梯形。

10.如权利要求1-9中任一项所述的制备方法制备成的一种显示面板。