[发明专利]变色膜及其制造方法

权利要求书

1.一种涂层厚度均匀的变色膜的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

A、提供表面间隔形成有凹部分和凸部分的图案模具，所述凹部分和凸部分形状相同且厚度相同；

B、在所述图案模具的表面涂布第一量子点UV树脂并将第一基材膜覆盖层压在其上，固化后剥离形成具有图案涂层的第一变色膜；

C、在所述第一变色膜的图案涂层上涂布第二量子点UV树脂并将第二基材膜覆盖层压在其上，固化后形成涂层厚度均匀的变色膜；

其中，所述图案模具表面的凹部分或凸部分的横截面形状为三角形、梯形、长方形、正方形或半圆形；

所述第一变色膜的图案涂层具有第一预定厚度，所述第一预定厚度基本等于图案模具表面的凹部分或凸部分的厚度并且所述第一变色膜的图案涂层的厚度偏差为1～2μm；

所述涂层厚度均匀的变色膜的涂层具有第二预定厚度，所述第二预定厚度基本等于图案模具表面的凹部分或凸部分的厚度，所述涂层厚度 均匀的变色膜的涂层的厚度最大偏差在5μm以下。

2.根据权利要求1所述涂层厚度均匀的变色膜的制造方法，其特征在于，所述第一基材膜或第二基材膜为阻隔膜或PET膜，所述固化的方式为UV光固化。

3.根据权利要求1所述涂层厚度均匀的变色膜的制造方法，其特征在于，所述第一量子点UV树脂内分散着能够分别发散绿色和红色波长的纳米尺寸量子点以及扩散剂。

4.根据权利要求3所述涂层厚度均匀的变色膜的制造方法，其特征在于，所述第二量子点UV树脂是与第一量子点UV树脂相同或不同的量子点UV树脂。

5.一种涂层厚度均匀的变色膜，其特征在于，采用权利要求1至4中任一项所述涂层厚度均匀的变色膜的制造方法制得。

6.根据权利要求5所述涂层厚度均匀的变色膜，其特征在于，所述变色膜为三明治结构并且包括第一基材膜、第二基材膜以及形成在第一基材膜和第二基材膜之间的量子点UV树脂层，其中，所述变色膜中量子点UV树脂层的厚度相对于预定厚度呈现的最大偏差在5um以下，所述预定厚度基本等于所述图案模具表面的凹部分或凸部分的厚度。