[发明专利]一种扰动力生成装置及方法

说明书

本发明实施例公开了一种扰动力生成装置及方法。其中，扰动力生成装置包括：流体源；至少一个扰动力调节单元，任一扰动力调节单元的入口与流体源的出口连通，任一扰动力调节单元包括：扰动力波动值生成支路，扰动力波动值生成支路的入口与扰动力调节单元的入口连通，扰动力波动值生成支路的出口与扰动力调节单元的出口连通；扰动力波动值生成支路包括：高频开关阀和第一流量调节模块，高频开关阀与第一流量调节模块串联连通。本发明实施例的技术方案中的扰动力生成装置可生成频率和波动范围可调的扰动力。

技术领域

本发明涉及测试技术领域，尤其涉及一种扰动力生成装置及方法。

背景技术

随着集成电路产品技术要求的提升，光刻技术也不断地提高分辨率以制作更加微细的器件尺寸，目前较为常用的就是浸没式光刻技术。

所谓的浸没式光刻技术是指在曝光镜头与硅片之间充满水或更高折射的浸没液体以取代传统干式光刻技术中对应的空气。由于水的折射率比空气大，所以浸没式光刻技术就是利用光通过液体介质后光源波长缩短来提高分辨率，其缩短的倍率即为液体介质的折射率。

浸没式光刻系统包括物镜、浸没头(Immersion Hood)、工件台，硅片放置在工件台上且位于物镜的下方，浸没头设置在物镜附近，物镜、浸没头和硅片之间形成一空间，水或其它浸没液体填充所述空间。

浸没式光刻系统在工作时，容易受到外界振动的干扰，导致光刻精度下降，故需要预先对浸没式光刻系统的抗扰性能进行测试。

发明内容

本发明实施例提供一种扰动力生成装置及方法，可以模拟浸没头或工件台受到的扰动力，为测试浸没头或工件台的抗扰性能提供条件。

第一方面，本发明实施例提供了一种扰动力生成装置，包括：

流体源；

至少一个扰动力调节单元，任一扰动力调节单元的入口与流体源的出口连通，任一扰动力调节单元包括：扰动力波动值生成支路，扰动力波动值生成支路的入口与扰动力调节单元的入口连通，扰动力波动值生成支路的出口与扰动力调节单元的出口连通；

扰动力波动值生成支路包括：高频开关阀和第一流量调节模块，高频开关阀与第一流量调节模块串联连通。

进一步地，第一流量调节模块包括：单向节流阀或电控两通调节阀。

进一步地，扰动力波动值生成支路还包括第一开关阀和第一流量检测模块，第一开关阀、高频开关阀、第一流量调节模块和第一流量检测模块串联连通。

进一步地，第一开关阀包括隔膜阀，扰动力生成装置还包括与隔膜阀对应设置的第一调压阀和电磁阀，流体源经第一调压阀、电磁阀与隔膜阀的控制腔连通。

进一步地，任一扰动力调节单元还包括：扰动力均值生成支路，扰动力均值生成支路的入口与扰动力调节单元的入口连通，扰动力均值生成支路的出口与扰动力波动值生成支路的出口汇合连通至扰动力调节单元的出口；

扰动力均值生成支路包括第二流量调节模块。

进一步地，第二流量调节模块包括：单向节流阀，或者，第二流量调节模块包括：串联连通的质量流量控制器和单向阀。

进一步地，扰动力均值生成支路还包括第二开关阀和第二流量检测模块，第二开关阀、第二流量调节模块和第二流量检测模块串联连通。

进一步地，扰动力生成装置还包括流体源处理单元，流体源处理单元的入口与流体源的出口连通，流体源处理单元的出口与至少一个扰动力调节单元的入口连通，流体源处理单元包括：串联连通的第三开关阀、第二调压阀、压力检测模块和流体过滤器。

进一步地，扰动力调节单元的数量为至少两个，流体源包括气源。