[发明专利]一种光源标定方法及光源标定装置在审
申请号: | 202010183664.1 | 申请日: | 2020-03-16 |
公开(公告)号: | CN113411551A | 公开(公告)日: | 2021-09-17 |
发明(设计)人: | 张贤鹏;吴超;陈孟浩;赵鹏;李屹 | 申请(专利权)人: | 深圳光峰科技股份有限公司 |
主分类号: | H04N9/31 | 分类号: | H04N9/31 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 唐双 |
地址: | 518052 广东省深圳市南山区粤*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光源 标定 方法 装置 | ||
1.一种光源标定方法,基于光学仿真设计系统,其特征在于,包括:
接收光机配置指令,根据所述光机配置指令在仿真设计界面上配置光机系统对应的图标,所述光机系统包括光传递系统和空间光调制器;
接收第一设置指令,在所述空间光调制器的出光位置配置反向均匀发光的参考阵列光源;
模拟计算所述参考阵列光源发出的参考光束依次经过所述空间光调制器和所述光传递系统后,在所述光传递系统的参考入口处的光分布信息;
根据所述光分布信息在所述光传递系统的参考入口处显示光源配置提示信息。
2.根据权利要求1所述的光源标定方法,其特征在于,所述光机系统对应的图标包括所述光传递系统的图标与所述空间光调制器的图标,所述根据所述光机配置指令在仿真设计界面上配置光机系统对应的图标的步骤,包括:
在接收到所述光机配置指令后,将所述光传递系统的图标配置在所述仿真设计界面上的第一预设位置处,并将所述空间光调制器的图标配置在所述仿真设计界面上的第二预设位置处;
其中,所述光机配置指令包括所述第一预设位置与所述第二预设位置,且所述第二预设位置在所述光传递系统的出光方向上。
3.根据权利要求1所述的光源标定方法,其特征在于,所述模拟计算所述参考阵列光源发出的参考光束依次经过所述空间光调制器和所述光传递系统的步骤之前,包括:
接收第一发光指令,根据所述第一发光指令控制所述参考阵列光源产生所述参考光束。
4.根据权利要求1所述的光源标定方法,其特征在于,所述参考阵列光源位于所述仿真设计界面的第三预设位置处,所述方法还包括:
接收光源移除指令,将所述参考阵列光源从所述第三预设位置移除。
5.根据权利要求4所述的光源标定方法,其特征在于,所述光源配置提示信息包括位置信息,所述方法还包括:
接收第二光源设置指令,根据所述光源配置提示信息在所述仿真设计界面上配置阵列光源;
其中,所述阵列光源包括多个发光单元,每个所述发光单元的位置与所述位置信息对应。
6.根据权利要求5所述的光源标定方法,其特征在于,所述方法还包括:
接收第二发光指令,根据所述第二发光指令控制所述阵列光源产生光束;
其中,所述光束依次经过所述光传递系统与所述空间光调制器,且所述空间光调制器出射的光束对应的光斑分布均匀且大小形状一致。
7.根据权利要求6所述的光源标定方法,其特征在于,所述光机系统还包括反射组件,所述方法还包括:
接收第三设置指令,在所述仿真设计界面上所述光传递系统的出光方向配置所述反射组件,以将所述光传递系统出射的光束反射至所述空间光调制器。
8.根据权利要求6所述的光源标定方法,其特征在于,所述光机系统还包括硅上液晶器件,所述方法还包括:
在接收到第四设置指令时,在所述空间光调制器出射的光束的光路上配置所述硅上液晶器件,以对所述空间光调制器出射的光束进行处理,生成光学图像。
9.根据权利要求1所述的光源标定方法,其特征在于,所述模拟计算所述参考阵列光源发出的参考光束依次经过所述空间光调制器和所述光传递系统后,在所述光传递系统的参考入口处的光分布信息的步骤,包括:
统计从所述光传递系统出射的光束的位置,得到所述光分布信息。
10.一种光源标定装置,其特征在于,包括互相连接的存储器和处理器,其中,所述存储器用于存储计算机程序,所述计算机程序在被所述处理器执行时,用于实现权利要求1-9中任一项所述的光源标定方法。
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