[发明专利]镀膜用容器在审

专利信息
申请号: 202010180470.6 申请日: 2020-03-16
公开(公告)号: CN111188015A 公开(公告)日: 2020-05-22
发明(设计)人: 苏朋;杨国文;宋院鑫;张松涛;赵卫东 申请(专利权)人: 度亘激光技术(苏州)有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/30
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 付兴奇
地址: 215000 江苏省苏州市工业园区*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 镀膜 容器
【权利要求书】:

1.一种镀膜用容器,其特征在于,包括:

坩埚,具有坩埚底盘和设于所述坩埚底盘的坩埚边框,所述坩埚边框围成坩埚容置空间;以及

衬锅,具有衬锅底盘和设于所述衬锅底盘的衬锅边框,所述衬锅设于所述坩埚容置空间中;

其中,在装配状态下,所述坩埚底盘与所述衬锅底盘贴合,所述坩埚边框与所述衬锅边框之间留有间隙。

2.根据权利要求1所述的镀膜用容器,其特征在于,所述坩埚容置空间的深度大于所述衬锅的高度。

3.根据权利要求1所述的镀膜用容器,其特征在于,所述坩埚容置空间的内底面的面积大于所述衬锅底盘的底面面积。

4.根据权利要求1至3任一项所述的镀膜用容器,其特征在于,所述坩埚底盘和所述衬锅底盘均为圆柱形结构;

所述坩埚容置空间顶端的内径大于所述坩埚容置空间底端的内径;

所述衬锅边框顶端的外径大于所述衬锅边框底端的外径。

5.根据权利要求4所述的镀膜用容器,其特征在于,所述坩埚容置空间包括由上至下依次连接的第一孔段、第二孔段和第三孔段;

其中,所述第二孔段的内径为由上至下渐缩设置。

6.根据权利要求5所述的镀膜用容器,其特征在于,所述第一孔段的内径和所述第三孔段的内径均为由上至下渐缩设置。

7.根据权利要求6所述的镀膜用容器,其特征在于,所述衬锅边框的外壁为由上至下渐缩设置;

其中,所述第三孔段的内壁与所述坩埚底盘所形成的角度小于所述衬锅边框与所述衬锅底盘所形成的角度。

8.根据权利要求7所述的镀膜用容器,其特征在于,所述衬锅的高度大于所述第三孔段的轴向长度,所述衬锅的高度小于所述第二孔段和第三孔段的轴向长度之和;

所述衬锅边框顶端的外径大于所述第二孔段底端的内径,所述衬锅边框顶端的外径小于所述第二孔段顶端的内径。

9.根据权利要求7所述的镀膜用容器,其特征在于,所述衬锅边框的最大外径大于所述坩埚容置空间的最小内径。

10.根据权利要求1所述的镀膜用容器,其特征在于,包括:

限位垫圈,夹设于所述坩埚和所述衬锅之间。

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