[发明专利]镀膜用容器在审

专利信息
申请号: 202010180470.6 申请日: 2020-03-16
公开(公告)号: CN111188015A 公开(公告)日: 2020-05-22
发明(设计)人: 苏朋;杨国文;宋院鑫;张松涛;赵卫东 申请(专利权)人: 度亘激光技术(苏州)有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/30
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 付兴奇
地址: 215000 江苏省苏州市工业园区*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 镀膜 容器
【说明书】:

本申请公开了一种镀膜用容器,涉及镀膜用具的技术领域。本申请的镀膜用容器包括坩埚和衬锅,坩埚具有坩埚底盘和设于坩埚底盘的坩埚边框,坩埚边框围成坩埚容置空间;衬锅具有衬锅底盘和设于衬锅底盘的衬锅边框,衬锅设于坩埚容置空间中;其中,在装配状态下,坩埚底盘与衬锅底盘贴合,坩埚边框与衬锅边框之间留有间隙。本申请通过坩埚边框与衬锅边框之间设置间隙,从而减小产生的电极黑点数,甚至不会产生电极黑点,增强了保温效果,减小了所需功率,延长了衬锅的使用寿命。

技术领域

本申请涉及镀膜用具的技术领域,具体而言,涉及一种镀膜用容器。

背景技术

现有技术的一种镀膜方式下,往往利用通过10000V左右的电子枪灯丝打出的能量来将衬锅内金属材料融化。但是现有技术中镀膜用具容易产生电极黑点,所需功率较大,保温效果较差。

发明内容

本申请的目的在于提供一种镀膜用容器,其减小产生的电极黑点数,保温效果较好,所需功率较小。

本申请的实施例是这样实现的:

一种镀膜用容器,包括坩埚和衬锅,所述坩埚具有坩埚底盘和设于所述坩埚底盘的坩埚边框,所述坩埚边框围成坩埚容置空间;所述衬锅具有衬锅底盘和设于所述衬锅底盘的衬锅边框,所述衬锅设于所述坩埚容置空间中;其中,在装配状态下,所述坩埚底盘与所述衬锅底盘贴合,所述坩埚边框与所述衬锅边框之间留有间隙。

于一实施例中,所述坩埚容置空间的深度大于所述衬锅的高度。

于一实施例中,所述坩埚容置空间的内底面的面积大于所述衬锅底盘的底面面积。

于一实施例中,所述坩埚底盘和所述衬锅底盘均为圆柱形结构;所述坩埚容置空间顶端的内径大于所述坩埚容置空间底端的内径;所述衬锅边框顶端的外径大于所述衬锅边框底端的外径。

于一实施例中,所述坩埚容置空间包括由上至下依次连接的第一孔段、第二孔段和第三孔段;其中,所述第二孔段的内径为由上至下渐缩设置。

于一实施例中,所述第一孔段的内径和所述第三孔段的内径均为由上至下渐缩设置。

于一实施例中,所述衬锅边框的外壁为由上至下渐缩设置;其中,所述第三孔段的内壁与所述坩埚底盘所形成的角度小于所述衬锅边框与所述衬锅底盘所形成的角度。

于一实施例中,所述衬锅的高度大于所述第三孔段的轴向长度,所述衬锅的高度小于所述第二孔段和第三孔段的轴向长度之和。

于一实施例中,所述衬锅边框顶端的外径大于所述第二孔段底端的内径,所述衬锅边框顶端的外径小于所述第二孔段顶端的内径。

于一实施例中,所述衬锅边框的最大外径大于所述坩埚容置空间的最小内径。

于一实施例中,所述镀膜用容器还包括限位垫圈,所述限位垫圈夹设于坩埚和衬锅之间。

于一实施例中,所述衬锅具有衬锅容置空间,所述衬锅边框围成所述衬锅容置空间,所述衬锅容置空间的内径为由上至下渐缩设置。

于一实施例中,所述坩埚底盘和所述坩埚边框为一体成型的,所述衬锅底盘和所述衬锅边框为一体成型的。

本申请与现有技术相比的有益效果是:

本申请通过坩埚边框与衬锅边框之间设置间隙,避免坩埚边框与衬锅边框直接接触,增强了保温效果,减小了所需功率,从而减少了产生的电极黑点数,甚至不会产生电极黑点,同时延长了衬锅的使用寿命;本申请的坩埚底盘与衬锅底盘贴合,使得衬锅的热量可以通过衬锅底盘传导,具有一定的散热效果,从而避免了由于坩埚内波动的冷却水流量而导致镀膜速率不稳定的问题,整个衬锅底盘和坩埚底盘贴合,具有一定的接触面积,降低了冷却水流量的波动对镀膜速率所产生的影响。

附图说明

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