[发明专利]一种数据写入读取方法、装置及系统有效

专利信息
申请号: 202010176209.9 申请日: 2020-03-13
公开(公告)号: CN111508535B 公开(公告)日: 2021-08-13
发明(设计)人: 郑超;刘晟 申请(专利权)人: 华为技术有限公司
主分类号: G11B9/10 分类号: G11B9/10
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 胡艳娟
地址: 518129 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 数据 写入 读取 方法 装置 系统
【权利要求书】:

1.一种数据写入方法,其特征在于,所述方法应用于存储系统,所述存储系统包括处理器、带电粒子束激发调制组件以及记录介质,所述方法由所述处理器执行,所述方法包括:

获取待写入数据;

根据所述待写入数据控制所述带电粒子束激发调制组件产生具有目标调制特征的带电粒子束组,所述带电粒子束组包括一个或多个带电粒子束;

控制所述带电粒子束组中的带电粒子束作用于所述记录介质,以使所述记录介质中的目标区域产生与所述待写入数据对应的目标记录特征;其中,所述目标区域是经所述带电粒子束组中的带电粒子束与所述记录介质发生作用的区域;

所述控制所述带电粒子束组中的带电粒子束作用于所述记录介质,以使所述记录介质中的目标区域产生与所述待写入数据对应的目标记录特征,包括:

控制所述带电粒子束组中的带电粒子束作用于所述记录介质上的辅助材料层,以使所述记录介质上的辅助材料层产生与所述待写入数据对应的辅助特征,所述辅助材料层产生的与所述待写入数据对应的辅助特征用于使所述记录介质上的目标区域产生与所述待写入数据对应的所述目标记录特征;其中,所述辅助材料层包括一层或多层。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述待写入数据控制所述带电粒子束激发调制组件产生具有目标调制特征的带电粒子束组,包括:

根据所述待写入数据以及预定的映射关系,控制所述带电粒子束激发调制组件产生具有目标调制特征的带电粒子束组;其中,所述映射关系定义了需要写入的数据与带电粒子束组的调制特征之间的对应关系,具有所述调制特征的带电粒子束组用于在所述记录介质上产生与需要写入的数据对应的记录特征,所述记录特征包括空间形貌特征、物理特征或化学特征中的至少一种。

3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述存储系统还包括扫描控制组件,所述扫描控制组件用于控制所述带电粒子束组按照预设的扫描轨迹作用于所述记录介质;所述控制所述带电粒子束组中的带电粒子束作用于所述记录介质,包括:

通过控制所述扫描控制组件,控制所述带电粒子束组按照预设的扫描轨迹作用于所述目标区域。

4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,

所述记录特征包括所述空间形貌特征,所述空间形貌特征包括圆形空间形貌特征,具有不同直径的圆形空间形貌特征与需要写入的数据一一对应;或者,

所述记录特征包括所述空间形貌特征,所述空间形貌特征包括椭圆形空间形貌特征,具有不同尺寸的椭圆形空间形貌特征与需要写入的数据一一对应;或者,

所述记录特征包括所述物理特征或所述化学特征中的至少一种,以及所述空间形貌特征,所述空间形貌特征包括圆形空间形貌特征,所述物理特征包括所述记录介质上在所述圆形空间形貌特征中的物理特征,所述化学特征包括所述记录介质上在所述圆形空间形貌特征中的化学特征;具有所述物理特征或所述化学特征中的至少一种、以及不同直径的圆形空间形貌特征,与需要写入的数据一一对应;或者,

所述记录特征包括所述物理特征或所述化学特征中的至少一种,以及所述空间形貌特征,所述空间形貌特征包括椭圆形空间形貌特征,所述物理特征包括所述记录介质上在所述椭圆形空间形貌特征中的物理特征,所述化学特征包括所述记录介质上在所述椭圆形空间形貌特征中的化学特征;具有所述物理特征或所述化学特征中的至少一种、以及不同尺寸的椭圆形空间形貌特征,与需要写入的数据一一对应。

5.根据权利要求1、2或4中任意一项所述的方法,其特征在于,所述存储系统还包括临界态激发组件,所述方法还包括:

控制所述临界态激发组件处理所述记录介质的待作用区域,以使所述待作用区域处于空间形貌变化临界状态、物理特征变化临界状态或化学特征变化临界状态中的至少一种,其中,所述待作用区域包括所述目标区域;

所述控制所述带电粒子束组中的带电粒子束作用于所述记录介质,包括:

控制所述带电粒子束组作用于经所述临界态激发组件处理的所述目标区域。

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