[发明专利]一种新型环保硅晶片清洗试剂及其制备方法及其应用

权利要求书

1.一种新型环保硅晶片清洗试剂，其特征在于：包括如下质量浓度的物质：

氢氧化钾 0.2-1.0g/L；

硅酸钠 0.1-0.8g/L；

焦磷酸钾 0.1-1.0g/L；

络合剂 0.01-0.1g/L；

渗透剂 0.05-0.5g/L；

乳化剂 0.05-0.5g/L；

余量为蒸馏水。

2.根据权利要求1所述的一种新型环保硅晶片清洗试剂，其特征在于：包括如下质量浓度的物质：

氢氧化钾 0.4-0.6g/L；

硅酸钠 0.2-0.5g/L；

焦磷酸钾 0.2-0.5g/L；

络合剂 0.03-0.06g/L；

渗透剂 0.1-0.3g/L；

乳化剂 0.1-0.3g/L；

余量为蒸馏水。

3.根据权利要求1所述的一种新型环保硅晶片清洗试剂，其特征在于：所述的络合剂为乙二胺四乙酸二钠、氨三乙酸三钠、氨基三亚甲基磷酸钠、羟基乙叉二膦酸钠、酒石酸钾钠的其中任意一种或任意两种以上以任意比例的混合物。

4.根据权利要求1所述的一种新型环保硅晶片清洗试剂，其特征在于：所述的渗透剂为直链辛基聚氧乙烯醚、直链壬基聚氧乙烯醚、直链癸基聚氧乙烯醚、直链辛基聚氧乙烯聚氧丙烯醚、直链壬基聚氧乙烯聚氧丙烯醚、直链癸基聚氧乙烯聚氧丙烯醚、支链二乙基己基聚氧乙烯醚、二乙基己基聚氧乙烯聚氧丙烯醚、二乙基己基硫酸酯钠、二乙基己基磷酸酯钠的其中任意一种或任意两种以上以任意比例的混合物。

5.根据权利要求1所述的一种新型环保硅晶片清洗试剂，其特征在于：所述的乳化剂为十二烷基苯磺酸钠、癸基苯磺酸钠、十二烷基硫酸钠、十二烷基磺酸钠、油酸钠、亚油酸钠、月桂醇聚氧乙烯醚、月桂醇聚氧乙烯醚磷酸钠、壬基酚聚氧乙烯醚、辛基酚聚氧乙烯醚、辛烯基琥珀酸的其中任意一种或任意两种以上以任意比例的混合物。

6.根据权利要求1所述的一种新型环保硅晶片清洗试剂，其特征在于：所述的pH为10-13。

7.根据权利要求6所述的一种新型环保硅晶片清洗试剂，其特征在于：所述的pH为11-13。

8.一种新型环保硅晶片清洗试剂的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：

步骤一：计算并称量取氢氧化钾、硅酸钠 、焦磷酸钾、络合剂、渗透剂、乳化剂；

步骤二：向反应釜中加入三分之二理论体积的蒸馏水，开启搅拌，加入所需氢氧化钾，搅拌至完全溶解；

步骤三：向反应釜中加入硅酸钠，焦磷酸钾，搅拌至完全溶解；

步骤四：加入络合剂、渗透剂、乳化剂，搅拌3-4h，至溶液澄清透明；

步骤五：按所需生产体积定容，再搅拌0.5h至充分混合均匀，过滤包装即产品。

9.一种新型环保硅晶片清洗试剂的应用，其特征在于：所述的清洗试剂在对硅晶片清洗时的温度为30-70℃；所述的清洗试剂的清洗时间为20-30min。

10.根据权利要求9所述的一种新型环保硅晶片清洗试剂的制备方法，其特征在于：所述的清洗试剂在对硅晶片清洗时采用清洗试剂浸泡超声波振荡或清洗试剂喷淋的方式进行清洗。