[发明专利]一种改进型ALD镀膜机在审
申请号: | 202010165165.X | 申请日: | 2020-03-11 |
公开(公告)号: | CN111218670A | 公开(公告)日: | 2020-06-02 |
发明(设计)人: | 郑锦 | 申请(专利权)人: | 南京原磊纳米材料有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/458 |
代理公司: | 北京专赢专利代理有限公司 11797 | 代理人: | 刘梅 |
地址: | 211800 江苏省南京市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 改进型 ald 镀膜 | ||
1.一种改进型ALD镀膜机,包括在内部上设置有半月板(9)的内反应腔(8),其特征在于,该镀膜机还包括内反应腔盖(5),所述内反应腔盖(5)安装在所述内反应腔(8)顶部;
在所述内反应腔盖(5)上转动贯穿有电机轴(3),而电机轴(3)一端固定在步进电机(2)的输出轴上,另一端与半月板(9)连接;其中,在靠近半月板(9)一侧的内反应腔盖(5)上开设有多片呈环形阵列分布的通孔片区(51),而通孔片区(51)是由多个呈阵列分布的连接孔组成;
所述内反应腔盖(5)外接有前驱体源管道和氮气管道;
在靠近所述内反应腔盖(5)一侧的半月板(9)上放置有多个呈环形分布的晶圆(91)。
2.根据权利要求1所述的一种改进型ALD镀膜机,其特征在于,在所述内反应腔盖(5)中心位置处配合电机轴(3)开设有穿插孔。
3.根据权利要求1所述的一种改进型ALD镀膜机,其特征在于,所述通孔片区(51)在内反应腔盖(5)上开设有十二个,且呈环形阵列分布。
4.根据权利要求1所述的一种改进型ALD镀膜机,其特征在于,所述晶圆(91)在半月板(9)上放置有三个,且半月板(9)上开始有用于限位晶圆(91)的卡槽。
5.根据权利要求1所述的一种改进型ALD镀膜机,其特征在于,所述内反应腔(8)外侧安装有隔热屏(6),隔热屏(6)顶部可分离式限位在内反应腔盖(5)上,在隔热屏(6)内部设置有多个电加热丝(7)。
6.根据权利要求1或5所述的一种改进型ALD镀膜机,其特征在于,在所述内反应腔(8)底部连接有粉末收集器(11),粉末收集器(11)另一端连接在真空泵(12)上,而真空泵(12)上连接有酸性排气腔(13)。
7.根据权利要求1所述的一种改进型ALD镀膜机,其特征在于,所述半月板(9)上放置有三个呈环形分布的晶圆(91)。
8.根据权利要求1或5所述的一种改进型ALD镀膜机,其特征在于,在所述内反应腔盖(5)上固定有电缸Ⅰ(1)和电缸Ⅱ(4),而电缸Ⅰ(1)和电缸Ⅱ(4)安装在电缸支架(10)上。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的