[发明专利]一种改进型ALD镀膜机在审

专利信息
申请号: 202010165165.X 申请日: 2020-03-11
公开(公告)号: CN111218670A 公开(公告)日: 2020-06-02
发明(设计)人: 郑锦 申请(专利权)人: 南京原磊纳米材料有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/458
代理公司: 北京专赢专利代理有限公司 11797 代理人: 刘梅
地址: 211800 江苏省南京市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 改进型 ald 镀膜
【权利要求书】:

1.一种改进型ALD镀膜机,包括在内部上设置有半月板(9)的内反应腔(8),其特征在于,该镀膜机还包括内反应腔盖(5),所述内反应腔盖(5)安装在所述内反应腔(8)顶部;

在所述内反应腔盖(5)上转动贯穿有电机轴(3),而电机轴(3)一端固定在步进电机(2)的输出轴上,另一端与半月板(9)连接;其中,在靠近半月板(9)一侧的内反应腔盖(5)上开设有多片呈环形阵列分布的通孔片区(51),而通孔片区(51)是由多个呈阵列分布的连接孔组成;

所述内反应腔盖(5)外接有前驱体源管道和氮气管道;

在靠近所述内反应腔盖(5)一侧的半月板(9)上放置有多个呈环形分布的晶圆(91)。

2.根据权利要求1所述的一种改进型ALD镀膜机,其特征在于,在所述内反应腔盖(5)中心位置处配合电机轴(3)开设有穿插孔。

3.根据权利要求1所述的一种改进型ALD镀膜机,其特征在于,所述通孔片区(51)在内反应腔盖(5)上开设有十二个,且呈环形阵列分布。

4.根据权利要求1所述的一种改进型ALD镀膜机,其特征在于,所述晶圆(91)在半月板(9)上放置有三个,且半月板(9)上开始有用于限位晶圆(91)的卡槽。

5.根据权利要求1所述的一种改进型ALD镀膜机,其特征在于,所述内反应腔(8)外侧安装有隔热屏(6),隔热屏(6)顶部可分离式限位在内反应腔盖(5)上,在隔热屏(6)内部设置有多个电加热丝(7)。

6.根据权利要求1或5所述的一种改进型ALD镀膜机,其特征在于,在所述内反应腔(8)底部连接有粉末收集器(11),粉末收集器(11)另一端连接在真空泵(12)上,而真空泵(12)上连接有酸性排气腔(13)。

7.根据权利要求1所述的一种改进型ALD镀膜机,其特征在于,所述半月板(9)上放置有三个呈环形分布的晶圆(91)。

8.根据权利要求1或5所述的一种改进型ALD镀膜机,其特征在于,在所述内反应腔盖(5)上固定有电缸Ⅰ(1)和电缸Ⅱ(4),而电缸Ⅰ(1)和电缸Ⅱ(4)安装在电缸支架(10)上。

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