[发明专利]一种环境分析实验前处理设备用冷阱装置在审
申请号: | 202010159187.5 | 申请日: | 2020-03-09 |
公开(公告)号: | CN111228847A | 公开(公告)日: | 2020-06-05 |
发明(设计)人: | 吴兆源;刘泊淼;刘畅 | 申请(专利权)人: | 上海恒析科学仪器有限公司 |
主分类号: | B01D8/00 | 分类号: | B01D8/00;B01L7/00 |
代理公司: | 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 11411 | 代理人: | 刘敏 |
地址: | 201600 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 环境 分析 实验 处理 备用 装置 | ||
本发明公开了一种环境分析实验前处理设备用冷阱装置,属于环境分析技术领域。它包括上散热装置、下散热装置、上半导体制冷片、下半导体制冷片、保温管、保温管支架以及若干支撑柱,上散热装置与下散热装置通过若干支撑柱相连,上半导体制冷片和下半导体制冷片分别外接电源,上半导体制冷片和下半导体制冷片分别具有热面和冷面,上半导体制冷片的热面与上散热装置贴合,下半导体制冷片的热面与下散热装置贴合,上半导体制冷片的冷面与保温管支架的上端面贴合,下半导体制冷片的冷面与保温管支架的下端面贴合,保温管接触并贯穿保温管支架,保温管支架内置温度传感器。本发明具有闭环调节精度高,并且可允许的最低温度理想的优点。
技术领域
本发明涉及环境分析技术领域,具体涉及一种环境分析实验前处理设备用冷阱装置。
背景技术
传统一次热解吸由于没有二次吸附、脱附过程,对于痕量组分检出线较差,二次吸附、脱附过程,即需要加装冷阱装置,并控制其降温制冷;不然没有降温聚焦过程,通过色谱GC所测组分峰型较宽,不理想;而传统普通冷阱降温温度闭环调节精度不高,并且可允许的最低温度不理想。因此,有必要提出一种新的技术方案。
发明内容
本发明提出一种环境分析实验前处理设备用冷阱装置,解决现有技术存在的闭环调节精度不高,并且可允许的最低温度不理想的问题。
为了实现上述目的,本发明的技术方案是这样实现的:一种环境分析实验前处理设备用冷阱装置,包括上散热装置、下散热装置、上半导体制冷片、下半导体制冷片、保温管、保温管支架以及若干支撑柱,所述上散热装置与所述下散热装置通过若干所述支撑柱相连,且所述上散热装置与所述下散热装置上下相对设置,所述上半导体制冷片和所述下半导体制冷片分别外接电源,所述上半导体制冷片和所述下半导体制冷片分别具有热面和冷面,所述上半导体制冷片的热面与所述上散热装置贴合,所述下半导体制冷片的热面与所述下散热装置贴合,所述上半导体制冷片的冷面与所述保温管支架的上端面贴合,所述下半导体制冷片的冷面与所述保温管支架的下端面贴合,所述保温管接触并贯穿所述保温管支架,所述保温管支架内置温度传感器。
优选的,所述上散热装置和下散热装置分别包括散热片架以及安装在所述散热片架上的散热风扇。
优选的,所述上半导体制冷片和下半导体制冷片分别与所述散热片架面接触。
优选的,所述保温管支架包括相对设置的上半片构件和下半片构件,所述上半片构件与所述下半片构件关于所述保温管的中心呈中心对称分布。
优选的,所述上半片构件和下半片构件分别包括具有平面的第一接触部和具有弧面的第二接触部,所述第一接触部与所述上半导体制冷片和下半导体制冷片面接触,所述第二接触部与所述保温管面接触。
优选的,所述上散热装置、下散热装置以及若干支撑柱之间围成的间隙中填充有保温膨胀剂,所述保温膨胀剂包裹所述上半导体制冷片、下半导体制冷片、保温管和保温管支架。
与现有技术相比,本发明具有下述优点:本发明提出的一种环境分析实验前处理设备用冷阱装置在使用时,先将铺集管从保温管的中心孔插入,然后分别为上半导体制冷片和下半导体制冷片通电,由于半导体制冷片的特性,在通电后,半导体制冷片的一面快速升温加热形成热面,另一面快速降温制冷形成冷面,热面将热量传导至上散热装置、下散热装置进行散热,冷面通过保温管支架从保温管吸取热量,来实现给保温管降温,最终实现贯穿保温管的铺集管降温制冷,且温度传感器能够检测反馈,达到对保温管迅速降温、精准控温的目的。因此,相比现有技术,本发明具有闭环调节精度高,并且可允许的最低温度理想的优点。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
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