[发明专利]一种大位阻烷基-烷基砜类化合物及其合成方法和应用

说明书

本发明属于有机化合物合成及应用技术领域，公开了一种如式(4)所示的大位阻烷基‑烷基砜类化合物及其合成方法，以羧酸衍生的氧化还原酯、还原性二氧化硫源以及烷基亲电试剂为原料，三组分一锅法得到一系列大位阻的烷基‑烷基砜类化合物。本发明合成方法原料来源广泛、廉价易得；反应操作简单；官能团耐受性强；该反应中还原性二氧化硫源的使用避免了额外当量金属还原试剂的加入，经济实用，避免了对环境的废金属污染。本发明还公开了所述烷基‑烷基砜类化合物在制备药物、农药、有机光电材料等中的应用。本发明具有较强的实用价值和广泛的应用前景。

技术领域

本发明属于有机化合物合成及应用技术领域，涉及一种大位阻烷基-烷基砜类化合物及其合成方法和应用。

背景技术

砜类化合物是一类非常重要的含硫化合物，其广泛存在于药物、农药、有机光电材料及天然产物中。因此，从廉价易得、来源广泛的商业原料出发高效环保地构建砜类化合物显得尤为重要。

传统合成砜类化合物的方法主要是由硫醇在过渡金属催化下构建硫醚类化合物，随后在强氧化剂作用下制备得到。然而现有方法存在的缺陷包括：(1)不可避免使用到有毒、恶臭、易被氧化的硫醇(硫酚)；(2)强氧化剂的使用使其原子经济性、官能团兼容性较差；(3)需要多步合成，步骤经济性较差。因此，发展一种简洁高效、操作简便的构建砜类化合物的方法具有重要意义。

发明内容

为了克服现有技术的上述缺陷，本发明创新性地提出了一种以商业可得、广泛存在的式(1)氧化还原酯(羧酸衍生的/羧酸原料制备的氧化还原酯)为底物，以式(2)为还原性二氧化硫源，以式(3)烷基亲电试剂为烷基源，在溶剂中，在添加剂(添加剂1、添加剂2)、碱的作用下三组分一锅法合成一系列式(4)大位阻烷基-烷基砜类化合物。本发明避免了有毒、恶臭的硫醇的使用，避免了在反应后期使用强氧化剂调整氧化态。本发明合成方法反应操作简单，原料廉价易得，来源广泛，底物普适性广，官能团耐受性强；该反应中还原性二氧化硫源的使用避免了额外当量金属还原试剂的加入，经济实用，避免了对环境的废金属污染；产率(30％-85％)高；本发明具有较强的实用价值和广泛的应用前景。

所述反应过程如下反应式(A)所示：

其中，R¹，R²，R³是各种烷基化合物基团。R也是各类烷基化合物基团。

优选地，R¹为直链烷基、环烷基、芳基烷基、含不饱和键的烷基或氢；R²为直链烷基、环烷基、芳基烷基、含不饱和键的烷基或氢；R³为直链烷基、环烷基、芳基烷基、含不饱和键的烷基或氢。R为直链烷基、环烷基、烷氧基烷基、芳基烷基、烯基烷基、炔基烷基。

进一步优选地，R¹为C1-C10直链烷基、C1-C10环烷基、芳基C1-C10烷基、含不饱和键的C1-C10烷基或氢；R²为C1-C10直链烷基、C1-C10环烷基、芳基C1-C10烷基、含不饱和键的C1-C10烷基或氢；R³为C1-C10直链烷基、C1-C10环烷基、芳基C1-C10烷基、含不饱和键的C1-C10烷基或氢。R为C1-C10直链烷基、C1-C10环烷基、烷氧基C1-C10烷基、芳基C1-C10烷基、烯基C1-C10烷基、炔基C1-C10烷基。

进一步优选地，R¹为直链烷基、环烷基、芳基烷基、含不饱和键的烷基或氢；R²为直链烷基、环烷基、芳基烷基、含不饱和键的烷基或氢；R³为直链烷基、环烷基、芳基烷基、含不饱和键的烷基或氢。R为甲基、乙基、正戊基、正庚基、正辛基、苯丙基、苯丁基、甲基环丁基、苯氧基乙基、正戊烯基、正丁炔基、噻吩乙基等。