[发明专利]一种大位阻烷基-烷基砜类化合物及其合成方法和应用

权利要求书

1.一种大位阻烷基-烷基砜类化合物的合成方法，其特征在于，在溶剂中，以式（1）氧化还原酯、式（2）还原性二氧化硫源和式（3）烷基亲电试剂为反应原料，在碱、添加剂1、添加剂2的作用下，反应得到所述式（4）烷基-烷基砜类化合物，反应过程如下反应式（A）所示：

反应式（A）；

其中，

所述烷基亲电试剂为烷基溴、烷基苯磺酸酯、烷基磷酸酯中的一种或多种；所述烷基即R；

所述添加剂1选自氯化镁、氯化锌、氯化锂、溴化锌、碘化锌、氯化锡、氯化铝、氟化锂之任意一种或多种；

所述添加剂2为四甲基氟化铵、四甲基氯化铵、四甲基溴化铵、四甲基碘化铵、四丁基氟化铵、四丁基氯化铵、四丁基溴化铵、四丁基碘化铵、四丁基四氟硼酸铵、四丁基六氟磷酸铵、苄基三乙基氟化铵、苄基三乙基氯化铵、苄基三乙基溴化铵、苄基三乙基碘化铵、15-冠-5、18-冠-6、环糊精、聚乙二醇之任意一种或多种；

R¹为直链烷基、环烷基、芳基烷基或氢；R²为直链烷基、环烷基、芳基烷基或氢；R³为直链烷基、环烷基、芳基烷基或氢；

所述R为直链烷基、环烷基、烷氧基烷基、芳基烷基、烯基烷基、炔基烷基。

2.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，所述R¹为C1-C10直链烷基、C1-C10环烷基、芳基C1-C10烷基或氢；R²为C1-C10直链烷基、C1-C10环烷基、芳基C1-C10烷基或氢；R³为C1-C10直链烷基、C1-C10环烷基、芳基C1-C10烷基或氢；R为C1-C10直链烷基、C1-C10环烷基、烷氧基C1-C10烷基、芳基C1-C10烷基、烯基C1-C10烷基、炔基C1-C10烷基。

3.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，R¹为直链烷基、环烷基、芳基烷基或氢；R²为直链烷基、环烷基、芳基烷基或氢；R³为直链烷基、环烷基、芳基烷基或氢；R为甲基、乙基、正戊基、正庚基、正辛基、苯丙基、苯丁基、甲基环丁基、苯氧基乙基、噻吩乙基。

4.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，所述R¹，R²，R³分别独立地选自甲基、乙基、正戊基、正庚基、正辛基、苯丙基、苯丁基、甲基环丁基、苯氧基乙基或噻吩乙基。

5.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，所述溶剂为N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、二甲亚砜、N-甲基吡咯烷酮、乙腈、水、四氢呋喃、1,4-二氧六环、环戊基甲醚、乙醚、叔丁基甲醚之任意一种或多种。

6.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，反应温度为60-140 ^oC。

7.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，反应时间为6-20 h。

8.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，所述还原性二氧化硫源为连二亚硫酸钠。

9.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，所述式（1）氧化还原酯、式（2）还原性二氧化硫源及式（3）烷基亲电试剂的摩尔比为1：（1-8）：（1-8）。

10.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，所述式（1）氧化还原酯与所述添加剂1的用量摩尔比为1：（1-5）。

11.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，所述碱选自碳酸钾、碳酸钠、碳酸锂、碳酸氢钾、碳酸氢钠、碳酸氢锂、磷酸钾、磷酸氢钾、氢氧化钾、氢氧化钠、三乙胺、N,N’-二异丙基乙胺、N,N’-二甲基乙二胺中的一种或多种；所述式（1）氧化还原酯与所述碱的用量摩尔比为1：（1-5）。

12.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，所述式（1）氧化还原酯与所述添加剂2的用量摩尔比为1：（1-5）。