[发明专利]X射线照影方法及其系统有效

专利信息
申请号: 202010152161.8 申请日: 2020-03-06
公开(公告)号: CN113359176B 公开(公告)日: 2022-10-04
发明(设计)人: 陈思妤;李致贤 申请(专利权)人: 台达电子工业股份有限公司
主分类号: G01T1/08 分类号: G01T1/08
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 黄艳
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 射线 方法 及其 系统
【权利要求书】:

1.一种X射线照影方法,包含多个步骤:

(a)执行一第一物体照影,通过检测穿过一第一物体的一X射线,获得一第一物体强度信号;

(b)执行一基准照影,通过检测该第一物体不在一照影范围时该X射线,获得一基准强度信号;以及

(c)由该第一物体强度信号、该基准强度信号及该第一物体的一第一衰减系数进行运算,获得该第一物体的一第一厚度,

其中,获得该第一厚度的步骤(c)包含:

(c-1)由该基准强度信号的一X光能谱及该第一衰减系数进行运算而获得一第一厚度特征曲线;以及

(c-2)由该第一厚度特征曲线及该第一物体强度信号进行运算,获得该第一厚度,

其中,该第一厚度特征曲线经由一函式获得,该函式包含:

其中,符号N1代表该第一物体强度信号,符号E为一X光射源的一最大管电压,符号μ代表为该第一衰减系数,符号i代表该X光能谱的一特定能量,符号x代表一像素位置的一物体体厚,符号Noi代表为X射线源所输出X光能谱的特定能量i所对应的光子数量。

2.如权利要求1所述的X射线照影方法,还包含多个步骤:

(d)执行一第二物体照影,通过检测穿过一第二物体的该X射线,获得一第二物体强度信号;以及

(e)由该第二物体强度信号、该基准强度信号及该第二物体的一第二衰减系数进行运算,获得该第二物体的一第二厚度。

3.如权利要求2所述的X射线照影方法,其中,获得该第二厚度的步骤(e)包含:

(e-1)由该基准强度信号的一X光能谱及该第二衰减系数进行运算而获得一第二厚度特征曲线;以及

(e-2)由该第二厚度特征曲线及该第二物体强度信号进行运算,获得该第二厚度。

4.如权利要求3所述的X射线照影方法,其中,该第二厚度特征曲线经由一函式获得,该函式为:

其中,符号N1代表该第二物体强度信号,符号E为一X光射源的一最大管电压,符号μ代表为该第二衰减系数,符号i代表该X光能谱的一特定能量,符号x代表一像素位置的一物体体厚。

5.如权利要求2所述的X射线照影方法,其中,该第一物体是一载台,该第二物体包含一样本及该载台,该方法还包含步骤(f):

将该第二厚度减去该第一厚度,获得一样本厚度。

6.一种X射线照影方法,包含多个步骤:

(a)执行一第一物体照影,通过检测穿过一第一物体的一X射线,获得一第一物体强度信号;

(b)执行一基准照影,通过检测该第一物体不在一照影范围中时该X射线,获得一基准强度信号;以及

(c)执行一第二物体照影,通过检测穿过一第二物体的该X射线,获得一第二物体强度信号;

(d)由该第一物体强度信号与该第二物体强度信号进行运算,获得一样本强度信号,其中该第一物体是一载台,该第二物体包含一样本及该载台;以及

(e)由该样本强度信号、该基准强度信号及一样本衰减系数进行运算,获得一样本厚度,

其中,获得该样本厚度的步骤(e)包含:

(e-1)由该基准强度信号的一X光能谱及该样本衰减系数进行运算,获得一样本厚度特征曲线;以及

(e-2)由该样本厚度特征曲线及该样本强度信号,获得该样本厚度,

其中,该样本厚度特征曲线经由一函式获得,该函式包含:

其中,符号N1代表该样本强度信号,符号E为一X光射源的一最大管电压,符号μ代表为第一衰减系数,符号i代表该X光能谱的一特定能量,符号x代表一像素位置的一物体体厚,符号Noi代表为X射线源所输出X光能谱的特定能量i所对应的光子数量。

7.如权利要求6所述的X射线照影方法,还包含多个步骤:

(f)由该基准强度信号、该样本厚度及一样本吸收系数进行运算,获得一剩余光子数;以及

(g)由该基准强度信号与该剩余光子数进行运算,获得该样本的一吸收光子数。

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