[发明专利]使用真空输送机的粉体自动输送系统

权利要求书

1.一种粉体自动输送系统，其特征在于，包括：

粉体注入部(100)，注入粉体；

粉体存储部(200)，接收来自所述粉体注入部(100)的粉体，并存储所接收的粉体；

真空输送部(300)，以真空吸入方式将注入至所述粉体注入部(100)的粉体输送至所述粉体存储部(200)；

粉体移动通路(400)，连接所述粉体注入部(100)和所述真空输送部(300)，从而形成输送粉体的通路；以及

真空破坏部500，调节所述粉体移动通路(400)的压力，从而限制通过所述粉体移动通路(400)发生的粉体的输送。

2.根据权利要求1所述的粉体自动输送系统，其特征在于，

所述真空破坏部(500)为真空破坏阀，其使外部空气直接流入所述粉体移动通路(400)，从而破坏粉体移动通路(400)的真空状态。

3.根据权利要求1所述的粉体自动输送系统，其特征在于，

所述真空破坏部(500)将气体注入至所述粉体移动通路(400)，从而破坏粉体移动通路(400)的真空状态。

4.根据权利要求3所述的粉体自动输送系统，其特征在于，

所述粉体注入部(100)进一步包括粉体测量部(110)，所述粉体测量部测量所述粉体注入部(100)的重量变化、以及从所述粉体注入部(100)供应至所述粉体移动通路(400)的粉体的重量中的至少一个，

所述真空破坏部(500)与所述粉体测量部(110)联动，并且在粉体测量部(110)测量的粉体注入部(100)的重量变化或从所述注入部(100)供应至所述粉体移动通路(400)的粉体量接近或达到指定数值时进行操作。

5.根据权利要求4所述的粉体自动输送系统，其特征在于，还包括粉体输送量调节部(600)，所述粉体输送量调节部用于调节从所述粉体注入部(100)供应至所述粉体移动通路(400)的粉体的量。

6.根据权利要求5所述的粉体自动输送系统，其特征在于，

所述粉体输送量调节部(600)与所述真空输送部(300)联动，在所述真空输送部(300)进行操作时，减少或阻断从所述粉体注入部(100)供应至所述粉体移动通路(400)的粉体的量。

7.根据权利要求6所述的粉体自动输送系统，其特征在于，

所述粉体输送量调节部(600)通过调节粉体通过的流路的剖面面积，从而调节通过的粉体的量。

8.根据权利要求1所述的粉体自动输送系统，其特征在于，

所述粉体注入部(100)和所述粉体移动通路(400)根据所使用粉体的大小设置多个，

所述粉体存储部(200)进一步包括粉体注入支管(210)，所述粉体注入支管通过彼此不同的粉体移动通路(400)分别与注入彼此不同的粉体的多个所述粉体注入部(100)连接。

9.根据权利要求8所述的粉体自动输送系统，其特征在于，

所述支管(210)包括：

上支管(210A)，其位于上侧，并且形成有结合各所述粉体移动通路(400)的多个移动通路结合部；

下支管(210B)，在所述上支管(210A)下侧倾斜地结合于上支管(210A)。

10.根据权利要求9所述的粉体自动输送系统，其特征在于，

多个所述粉体移动通路(400)对应于通过的粉体的比重而具有彼此不同的材质。