[发明专利]光掩模的修正方法及修正装置、带保护膜的光掩模的制造方法、显示装置的制造方法

说明书

提供光掩模的修正方法及修正装置、带保护膜的光掩模的制造方法、显示装置的制造方法，能够在不从光掩模卸下保护膜的情况下对转印用图案的缺陷进行修正。一种光掩模的修正方法，对光掩模的转印用图案中所产生的缺陷进行修正，该光掩模在透明基板的主表面上具有所述转印用图案，其中，该光掩模的修正方法具有成膜工序，在该成膜工序中，在所述光掩模上粘贴有保护膜的状态下，将原料气体导入到由所述光掩模和所述保护膜形成的保护膜空间中，并且透过所述保护膜具有的保护膜膜体朝缺陷部位照射激光，使所述原料气体发生反应，由此使修正膜堆积在所述缺陷部位。

技术领域

本发明涉及光掩模的修正方法、光掩模的修正装置、带保护膜的光掩模的制造方法和显示装置的制造方法。

背景技术

作为光掩模的制造方法，已知有对在透明基板上形成有至少1个薄膜的光掩模基板应用光刻法形成转印用图案的方法。近年来，显示装置用光掩模的图案尺寸存在细微化的动向。另一方面，在光掩模的制造过程中，由于薄膜的图案形成的不完全或异物的附着等，难以完全避免转印用图案的缺陷。

以往，作为光掩模的缺陷的修正方法，已知有激光CVD(Chemical VaporDeposition：化学气相沉积)法(参照专利文献1)。此外，为了抑制异物附着到已完成的光掩模上，根据需要，有时在形成有光掩模的转印用图案的面侧粘贴被称作保护膜(Pellicle)的部件。该保护膜例如记载在专利文献2中。

专利文献1：日本特开平2-140744号公报

专利文献2：日本特开平9-68792号公报

发明内容

但是，专利文献1、2中均未公开对粘贴有保护膜的光掩模的缺陷进行修正的方法。在需要在粘贴保护膜之后进行修正的情况下，需要从光掩模取下保护膜以进行修正，在修正完成之后将新的保护膜粘贴到光掩模。因此，生产性能的降低、成本的增加成为问题。

因此，本发明的目的在于提供一种能够在不从光掩模取下保护膜的情况下对转印用图案的缺陷进行修正的光掩模的修正方法。

本发明的目的还在于提供光掩模的修正装置、带保护膜的光掩模的制造方法和显示装置的制造方法。

(第1方式)

根据本发明的第1方式，提供一种光掩模的修正方法，对光掩模的转印用图案中所产生的缺陷进行修正，该光掩模在透明基板的主表面上具有所述转印用图案，其中，该光掩模的修正方法具有成膜工序，在该成膜工序中，在所述光掩模上粘贴有保护膜的状态下，将原料气体导入到由所述光掩模和所述保护膜形成的保护膜空间中，并且透过所述保护膜具有的保护膜膜体朝缺陷部位照射激光，使所述原料气体发生反应，由此使修正膜堆积在所述缺陷部位。

(第2方式)

根据本发明的第2方式，提供根据第1方式所述的光掩模的修正方法，其中，

在所述成膜工序中，从设置在所述保护膜所具有的保护膜框上的保护膜通气口导入所述原料气体。

(第3方式)

根据本发明的第3方式，

提供根据第2方式所述的光掩模的修正方法，其中，所述保护膜被夹具夹持，该夹具具有能够与所述保护膜通气口紧贴的开口部，

在所述成膜工序中，通过所述开口部从所述保护膜通气口导入所述原料气体。

(第4方式)

根据本发明的第4方式，提供根据第1方式～第3方式中的任意一个所述的光掩模的修正方法，其中，

在所述成膜工序之后具有气体置换工序，在该气体置换工序中，通过将置换气体导入到所述保护膜空间内，将所述原料气体从所述保护膜空间排出。

(第5方式)