[发明专利]光掩模的修正方法及修正装置、带保护膜的光掩模的制造方法、显示装置的制造方法

权利要求书

1.一种光掩模的修正方法，对光掩模的转印用图案中所产生的缺陷进行修正，该光掩模在透明基板的主表面上具有所述转印用图案，其中，

该光掩模的修正方法具有成膜工序，在该成膜工序中，在所述光掩模上粘贴有保护膜的状态下，将原料气体导入到由所述光掩模和所述保护膜形成的保护膜空间中，并且透过所述保护膜具有的保护膜膜体朝缺陷部位照射激光，使所述原料气体发生反应，由此使修正膜堆积在所述缺陷部位。

2.根据权利要求1所述的光掩模的修正方法，其中，

在所述成膜工序中，从设置在所述保护膜所具有的保护膜框上的保护膜通气口导入所述原料气体。

3.根据权利要求2所述的光掩模的修正方法，其中，

所述保护膜被夹具夹持，该夹具具有能够与所述保护膜通气口紧贴的开口部，

在所述成膜工序中，通过所述开口部从所述保护膜通气口导入所述原料气体。

4.根据权利要求1～3中的任意一项所述的光掩模的修正方法，其中，

在所述成膜工序之后具有气体置换工序，在该气体置换工序中，通过将置换气体导入到所述保护膜空间内，将所述原料气体从所述保护膜空间排出。

5.根据权利要求1～3中的任意一项所述的光掩模的修正方法，其中，

在所述成膜工序中，对所述光掩模进行加温。

6.一种带保护膜的光掩模的制造方法，其中，

该带保护膜的光掩模的制造方法具有如下的工序：使用权利要求1～5中的任意一项所述的光掩模的修正方法，对形成在所述光掩模上的转印用图案的缺陷进行修正。

7.一种显示装置的制造方法，具有以下工序：

准备通过权利要求6所述的制造方法制造的带保护膜的光掩模；以及

使用曝光装置对所述带保护膜的光掩模进行曝光，将转印用图案转印至被转印体。

8.一种光掩模的修正装置，对光掩模的转印用图案中所产生的缺陷进行修正，该光掩模在透明基板的主表面上具有所述转印用图案，其中，该光掩模的修正装置具有：

掩模保持架，其保持在所述主表面上粘贴有保护膜的状态的所述光掩模；

气体导入管，其用于将原料气体导入到由所述光掩模和所述保护膜形成的保护膜空间中；

激光照射单元，其透过所述保护膜具有的保护膜膜体朝缺陷部位照射激光；

激光水平移动单元，其使所述激光照射单元在XY平面内移动；以及

控制单元，其对所述激光水平移动单元进行控制。

9.根据权利要求8所述的光掩模的修正装置，其中，

该光掩模的修正装置还具有夹具，该夹具具有中空的一对臂，

所述一对臂中的至少一方具有开口部，该开口部与所述气体导入管连接，并且能够与设置在所述保护膜具有的保护膜框上的保护膜通气口紧贴，

所述夹具利用所述一对臂夹持所述保护膜框，使得所述开口部与所述保护膜通气口紧贴。

10.根据权利要求8或9所述的光掩模的修正装置，其中，

该光掩模的修正装置还具有气体排出管，该气体排出管用于将剩余的所述原料气体从所述保护膜空间排出。

11.根据权利要求8或9所述的光掩模的修正装置，其中，

该光掩模的修正装置还具有加热器，该加热器对所述光掩模进行加温。