[发明专利]一种自主体及其定位方法和装置

权利要求书

1.一种自主体定位方法，其特征在于，包括：

对所述自主体上的激光雷达当前时刻扫描的点云数据进行特征提取，得到环境轮廓特征和反光板位置特征；

根据所述环境轮廓特征在预先建立的环境地图中确定至少一个相似轮廓；

将所述反光板位置特征与所述至少一个相似轮廓上的反光板位置进行比对，根据比对结果从所述至少一个相似轮廓中确定目标轮廓以及所述目标轮廓中的反光板位置；及

根据所述目标轮廓中的反光板位置确定所述自主体当前所在位置。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述环境轮廓特征在预先建立的环境地图中确定至少一个相似轮廓，包括：

将所述环境轮廓特征与所述环境地图中的各轮廓进行匹配，以得到与所述环境地图中各轮廓间的第一匹配度；

将所述第一匹配度超过预设阈值的轮廓或者对所述第一匹配度进行排序，并将从排序结果中选择的预设数量轮廓确定为相似轮廓。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述反光板位置特征从所述至少一个相似轮廓中确定目标轮廓以及所述反光板位置，包括：

将所述反光板位置特征与各所述相似轮廓上的反光板位置进行比对；

若所述反光板位置特征与任一相似轮廓上的反光板位置匹配，则确定所述相似轮廓为目标轮廓，并将所述目标轮廓上的反光板所在位置，确定为扫描到的反光板位置；

相应地，所述根据所述反光板位置确定所述自主体当前所在位置,包括：

根据所述目标轮廓上的反光板所在位置，确定所述自主体当前所在位置。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述反光板位置特征从所述至少一个相似轮廓中确定目标轮廓以及所述反光板位置，包括：

将所述反光板位置特征与各所述相似轮廓上的反光板位置进行比对，确定第二匹配度；

根据所述第二匹配度，或者所述第一匹配度和所述第二匹配度从所述相似轮廓中确定目标轮廓；

根据所述反光板位置特征确定所述反光板在所述目标轮廓上的位置作为扫描到的反光板位置。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述根据所述第二匹配度，或者所述第一匹配度和所述第二匹配度从所述相似轮廓中确定目标轮廓，包括：

将所述第二匹配度最高的相似轮廓确定为目标轮廓，或者对所述第一匹配度和所述第二匹配度进行加权后将匹配度最高的相似轮廓作为目标轮廓。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述反光板位置确定所述自主体当前所在位置，包括：

根据所述点云数据确定所述反光板相对于所述激光雷达的相对位置；以及

根据所述相对位置以及所述反光板位置确定所述自主体的位置。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述反光板位置确定所述自主体当前所在位置之后，所述方法还包括：

根据所述目标轮廓确定所述自主体的位置作为校验位置；

若所述校验位置与所述当前所在位置的差值不在预设允许偏差范围内，则丢弃当前帧的点云数据，重新获取下一帧点云数据，并根据重新获取到的下一帧点云数据进行定位；和/或确定所述激光雷达出错，向用户发送提示信息。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括预先建立所述环境地图的步骤，包括：

控制所述自主体在设置有反光板的环境中移动，并控制所述自主体上的激光雷达对环境进行扫描以获取点云数据；

根据所述点云数据创建环境地图。