[发明专利]一种显示面板的制作方法、显示面板及显示装置

说明书

本发明提供了一种显示面板的制作方法、显示面板及显示装置。解决了由于没有标记结构，在进行BM+CF工艺时无法对位，导致工艺步骤无法进行的问题。包括：在所述发光器件层上方涂布覆盖层；在所述覆盖层上制作标记结构；在所述覆盖层远离所述发光器件层的一侧涂布黑色矩阵胶层，所述黑色矩阵胶层覆盖所述标记结构，所述黑色矩阵胶层位于所述标记结构的区域的厚度与位于非所述标记结构的区域的厚度不同；以及依据所述标记结构和所述黑色矩阵胶层进行对位，在所述黑色矩阵胶层制作黑色矩阵图形。标记结构发光器件层标记结构发光器件层。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板的制作方法、显示面板及显示装置。

背景技术

未来可折叠手机会成为市场主流趋势，为了应对折叠屏技术，需降低屏幕厚度。通过一种新的工艺BM+CF(Black Matrix+Color Filter，黑色矩阵+彩色滤光片)替代现有偏光片，能够明显降低屏幕的厚度。不同于传统的偏光工艺，一些BM+CF工艺是需要进行涂布曝光显影来完成的，并且要匹配像素位置。进行BM+CF工艺时，先在OC(Over Coating，涂层)上涂布一层黑色矩阵胶，然后进行曝光显影，由于黑色矩阵胶为黑色，在进行曝光时会出现由于没有标记结构，无法进行对位的情况，从而造成工艺步骤无法进行。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提供了一种显示面板的制作方法、显示面板及显示装置。解决了由于没有标记结构，在进行BM+CF工艺时无法对位，导致工艺步骤无法进行的问题。

本发明一实施例提供的一种显示面板的制作方法、显示面板及显示装置。所述显示面板包括阵列基板和发光器件层，所述显示面板的制作方法包括：在所述发光器件层上方涂布覆盖层；在所述覆盖层上制作标记结构；在所述覆盖层远离所述发光器件层的一侧涂布黑色矩阵胶层，所述黑色矩阵胶层覆盖所述标记结构，所述黑色矩阵胶层位于所述标记结构的区域的厚度与位于非所述标记结构的区域的厚度不同；以及依据所述标记结构和所述黑色矩阵胶层进行对位，在所述黑色矩阵胶层制作黑色矩阵图形。

在一种实施方式中，在所述覆盖层上制作标记结构包括在所述覆盖层上制作凹槽；和/或，在所述覆盖层上制作凸起。

在一种实施方式中，所述标记结构为凹槽，在所述覆盖层远离所述发光器件层的一侧涂布黑色矩阵胶层包括：在所述覆盖层远离所述发光器件层的一侧涂布黑色矩阵胶以形成黑色矩阵胶层，其中所述黑色矩阵胶流入所述凹槽内；其中所述黑色矩阵胶层具有平坦表面；或，所述黑色矩阵胶层具有不平坦表面。

在一种实施方式中，所述标记结构为凸起，在所述覆盖层远离所述发光器件层的一侧涂布黑色矩阵胶层包括：在所述覆盖层远离所述发光器件层的一侧涂布黑色矩阵胶以形成黑色矩阵胶层，其中所述黑色矩阵胶覆盖所述凸起；其中所述黑色矩阵胶层具有平坦表面；或，所述黑色矩阵胶层具有不平坦表面。

在一种实施方式中，所述在所述覆盖层上制作标记结构的方法为以下方法中的一种或多种：曝光、激光镭射或打印。

在一种实施方式中，所述覆盖层为负性光刻胶，通过对所述覆盖层的预设标记结构位置进行不曝光处理，其余位置进行曝光处理以得到所述凹槽；或者，对所述覆盖层的预设标记结构位置进行曝光处理，其余位置进行不曝光处理以得到所述凸起。

一种显示面板，所述显示面板包括阵列基板和发光器件层，其特征在于，还包括：覆盖层，设置于发光器件层上方，所述覆盖层包括标记结构；以及黑色矩阵层，设置于所述覆盖层远离所述发光器件层的一侧。

在一种实施方式中，所述标记结构包括凹槽或凸起。

在一种实施方式中，所述黑色矩阵层具有平坦表面；或，所述黑色矩阵层具有不平坦表面。

一种显示装置，其特征在于，包括上述任一项所述的显示面板。