[发明专利]一种显示面板的制作方法、显示面板及显示装置

权利要求书

1.一种显示面板的制作方法，所述显示面板包括阵列基板和发光器件层，其特征在于，包括：

在所述发光器件层上方涂布覆盖层；

在所述覆盖层上制作标记结构；

在所述覆盖层远离所述发光器件层的一侧涂布黑色矩阵胶层，所述黑色矩阵胶层覆盖所述标记结构，所述黑色矩阵胶层位于所述标记结构的区域的厚度与位于非所述标记结构的区域的厚度不同；以及

依据所述标记结构和所述黑色矩阵胶层进行对位，在所述黑色矩阵胶层制作黑色矩阵图形。

2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述覆盖层上制作标记结构包括在所述覆盖层上制作凹槽；和/或，

在所述覆盖层上制作凸起。

3.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述标记结构为凹槽，在所述覆盖层远离所述发光器件层的一侧涂布黑色矩阵胶层包括：在所述覆盖层远离所述发光器件层的一侧涂布黑色矩阵胶以形成黑色矩阵胶层，其中所述黑色矩阵胶流入所述凹槽内；

其中所述黑色矩阵胶层具有平坦表面；或，

所述黑色矩阵胶层具有不平坦表面。

4.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述标记结构为凸起，在所述覆盖层远离所述发光器件层的一侧涂布黑色矩阵胶层包括：在所述覆盖层远离所述发光器件层的一侧涂布黑色矩阵胶以形成黑色矩阵胶层，其中所述黑色矩阵胶覆盖所述凸起；

其中所述黑色矩阵胶层具有平坦表面；或，

所述黑色矩阵胶层具有不平坦表面。

5.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述在所述覆盖层上制作标记结构的方法为以下方法中的一种或多种：曝光、激光镭射或打印。

6.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述覆盖层为负性光刻胶，通过对所述覆盖层的非预设标记结构位置进行曝光处理，对预设标记结构位置进行不曝光处理，以在所述预设标记结构位置形成所述凹槽；或者，

对所述覆盖层的预设标记结构位置进行曝光处理，对所述非预设标记结构位置进行不曝光处理，以在所述预设标记结构位置形成所述凸起。

7.一种显示面板，所述显示面板包括阵列基板和发光器件层，其特征在于，还包括：覆盖层，设置于发光器件层上方，所述覆盖层包括标记结构；以及

黑色矩阵层，设置于所述覆盖层远离所述发光器件层的一侧。

8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述标记结构包括凹槽或凸起。

9.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述黑色矩阵层具有平坦表面；或，

所述黑色矩阵层具有不平坦表面。

10.一种显示装置，其特征在于，包括上述权利要求7-9中任一项所述的显示面板。