[发明专利]带电粒子束描绘方法以及带电粒子束描绘装置在审
| 申请号: | 202010118952.9 | 申请日: | 2020-02-26 |
| 公开(公告)号: | CN111624857A | 公开(公告)日: | 2020-09-04 |
| 发明(设计)人: | 松井秀树 | 申请(专利权)人: | 纽富来科技股份有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00;H01J37/304;H01J37/317 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 刘杰 |
| 地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 带电 粒子束 描绘 方法 以及 装置 | ||
1.一种带电粒子束描绘方法,一边使基板移动一边对其照射带电粒子束,对将上述基板的描绘区域以宽度W分割而成的多个条带的每个依次描绘图案,其特征在于,
将针对每个条带一边以设定的条带偏移量在上述条带的宽度方向上使上述条带的基准点偏移并且切换上述基板的移动方向、一边以多重度2n描绘上述多个条带的处理设为1次行程,进行S次上述行程的描绘处理,
在上述行程的每个,以设定的行程偏移量在上述条带的宽度方向上使上述行程中的上述条带的基准点偏移而进行描绘,
其中,n为1以上的整数,S为2以上的整数。
2.根据权利要求1所述的带电粒子束描绘方法,其特征在于,
当以多重度N描绘图案的情况下,S=N-(2n-1),
其中,N为2n+1以上的整数。
3.根据权利要求2所述的带电粒子束描绘方法,其特征在于,
当设条带宽度为W、n=1的情况下,描绘第k个条带后的上述设定的条带偏移量比W小,
描绘第k+1个条带后的上述设定的条带偏移量为W以上,
其中,k为1以上的奇数。
4.根据权利要求3所述的带电粒子束描绘方法,其特征在于,
第k个条带的描绘处理后的上述设定的条带偏移量为W/N。
5.一种带电粒子束描绘装置,其特征在于,具备:
描绘部,一边使基板在预定的方向连续移动,一边对将该基板的描绘区域以预定宽度分割而成的多个条带的每个依次描绘图案;以及
控制部,控制上述描绘部,以便将针对每个条带一边以设定的条带偏移量在上述条带的宽度方向上使描绘开始位置偏移并且切换上述基板的移动方向、一边以多重度2n描绘上述多个条带的1次行程的描绘处理进行S次,针对每个上述行程的描绘以设定的行程偏移量在上述条带的宽度方向上使上述行程中的上述条带的基准点偏移,
其中,n为1以上的整数,S为2以上的整数。
6.根据权利要求5所述的带电粒子束描绘装置,其特征在于,
当以多重度N描绘图案的情况下,S=N-(2n-1),
其中,N为2n+1以上的整数。
7.根据权利要求6所述的带电粒子束描绘装置,其特征在于,
当条带宽度为W、n=1的情况下,描绘第k个条带后的上述设定的条带偏移量比W小,
描绘第k+1个条带后的上述设定的条带偏移量为W以上,
其中,k为1以上的奇数。
8.根据权利要求7所述的带电粒子束描绘装置,其特征在于,
第k个条带的描绘处理后的上述设定的条带偏移量为W/N。
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