[发明专利]晶圆的处理系统

权利要求书

1.一种晶圆的处理系统，其特征在于，包括处理装置，所述处理装置包括：

清洗腔，所述清洗腔用于盛放晶圆清洗液；

检测设备，与所述清洗腔连通，所述检测设备用于检测所述清洗液中的金属元素。

2.根据权利要求1所述的处理系统，其特征在于，所述检测设备包括检测腔和检测组件，所述检测腔与所述清洗腔对应地连通，所述检测组件位于所述检测腔内。

3.根据权利要求2所述的处理系统，其特征在于，所述检测组件包括滴定仪。

4.根据权利要求1所述的处理系统，其特征在于，所述处理装置还包括：

循环管路，所述循环管路的进水口、出水口均与所述清洗腔连通，所述检测设备在所述循环管路的进水口的下游位置且与所述循环管路连通。

5.根据权利要求4所述的处理系统，其特征在于，所述处理装置还包括：

取样管路，所述取样管路的一端与所述循环管路的进水口的下游位置连通，另一端连通所述检测设备。

6.根据权利要求4所述的处理系统，其特征在于，所述处理装置还包括运送泵，所述运送泵设置在所述循环管路上。

7.根据权利要求6所述的处理系统，其特征在于，所述处理装置还包括过滤器，所述过滤器设置在所述运送泵和所述出水口之间的所述循环管路上。

8.根据权利要求1所述的处理系统，其特征在于，所述处理系统中包含多个所述处理装置。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的处理系统，其特征在于，所述处理系统还包括：

错误侦测与判断装置，与所述检测设备电连接，用于根据所述检测设备的检测结果判断是否出现异常。

10.根据权利要求9所述的处理系统，其特征在于，在所述检测设备检测到的单位体积的金属重量大于预定值的情况下，所述错误侦测与判断装置判断为异常，在所述检测设备检测到的单位体积的金属重量小于或者等于预定值的情况，所述错误侦测与判断装置判断为正常。

11.根据权利要求10所述的处理系统，其特征在于，所述处理系统还包括：

报警装置，所述报警装置与所述错误侦测与判断系统电连接，所述报警装置用于在所述错误侦测与判断装置判断出现异常的情况下，发出报警信号。