[发明专利]一种原子沉积置物框与原子沉积设备在审
申请号: | 202010116405.7 | 申请日: | 2020-02-25 |
公开(公告)号: | CN111180371A | 公开(公告)日: | 2020-05-19 |
发明(设计)人: | 侯新倾;刘权辉;周超;吴克恒 | 申请(专利权)人: | 浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司 |
主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673;H01L31/18;H01L21/02;C23C16/40;C23C16/458 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王雨 |
地址: | 314416 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 原子 沉积 置物框 设备 | ||
本发明公开了一种原子沉积置物框,包括置物单元,所述置物单元包括多个置物台面;多个所述置物台面套嵌设置于所述置物单元中,且尺寸较小的所述置物台面位置低于尺寸较大的所述置物台面;尺寸最小的所述置物台面底部包括负压腔体,所述负压腔体包括多个放气孔。本发明通使不同尺寸的待沉积硅片都能有适合的置物台面将其固定,实现同一原子沉积置物框能提供多种规格的待沉积硅片使用的效果,大大降低了生产成本,且由于在更换不同尺寸的待沉积硅片后不需要像现有技术一样随之更换新的原子沉积置物框,不需要重新进行对应的饱和工艺及蓝膜检测,简化了工艺流程,提高了生产效率。本发明还提供了一种具有上述有益效果的原子沉积设备。
技术领域
本发明涉及新材料加工设备领域,特别是涉及一种原子沉积置物框与原子沉积设备。
背景技术
在晶体硅太阳能电池的生产中,氧化铝钝化技术是光伏太阳能电池行业最核心的钝化技术,其中原子沉积氧化铝膜方式是制备氧化铝膜层最主要的方式之一。利用原子沉积方式制备沉积氧化铝时,要将硅片放在专门的载板上,我们称载板为置物框。我们目前使用的置物框费用高昂,且仅能提供单规格尺寸硅片的使用。这就使得在产线更换其他尺寸的硅片进行生产后就必须更换相应规格尺寸的置物框,还要进行对应的饱和工艺和蓝膜检测工艺。而置物框的更换,置物框的饱和处理都会增加员工的工作量,且同时都会影响设备的开机效率。除此之外,更换新尺寸的置物框后,旧尺寸的置物框只能作废处理,使得车间购买备件的费用升高,进而增加了生产线的投入成本。
因此,如何解决现有技术中的同一置物框只能对应单一尺寸的硅片生产,使得更换生产硅片的尺寸时生产效率下降、生产成本上高的问题,是本领域技术人员亟待解决的问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种原子沉积置物框与原子沉积设备,以解决现有技术中同一置物框只能对应单一尺寸的硅片生产,使得更换生产硅片的尺寸时生产效率下降、生产成本上高的问题。
为解决上述技术问题,本发明提供一种原子沉积置物框,包括置物单元,所述置物单元包括多个置物台面;
多个所述置物台面套嵌设置于所述置物单元中,且尺寸较小的所述置物台面位置低于尺寸较大的所述置物台面;
尺寸最小的所述置物台面底部包括负压腔体,所述负压腔体包括多个放气孔。
可选地,在所述的原子沉积置物框中,所述原子沉积置物框包括多个所述置物单元;
多个所述置物单元矩阵分布于同一平面上。
可选地,在所述的原子沉积置物框中,所述置物台面为矩形置物台面。
可选地,在所述的原子沉积置物框中,所述矩形置物台面为直角矩形置物台面。
可选地,在所述的原子沉积置物框中,所述负压腔体在尺寸最小的所述置物台面上的开口为矩形开口。
可选地,在所述的原子沉积置物框中,所述矩形开口为倒角矩形开口。
可选地,在所述的原子沉积置物框中,所述放气孔的直径的范围为0.2毫米至6毫米,包括端点值。
可选地,在所述的原子沉积置物框中,每个所述置物单元包括2个置物台面。
可选地,在所述的原子沉积置物框中,所述原子沉积置物框为石墨置物框。
一种原子沉积设备,所述原子沉积设备包括如上述任一种所述的原子沉积置物框。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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