[发明专利]一种5-羟甲基四氮唑及其衍生物的合成方法在审
| 申请号: | 202010113533.6 | 申请日: | 2020-02-25 |
| 公开(公告)号: | CN111269192A | 公开(公告)日: | 2020-06-12 |
| 发明(设计)人: | 林森;袁婷;宋泰良;白峰 | 申请(专利权)人: | 成都睿智化学研究有限公司 |
| 主分类号: | C07D257/04 | 分类号: | C07D257/04 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 610000 四川省成都市高新*** | 国省代码: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 甲基 四氮唑 及其 衍生物 合成 方法 | ||
1.一种5-羟甲基四氮唑及其衍生物的合成方法,其特征在于,所述5-羟甲基四氮唑及其衍生物结构如下式A所示,
其中,R1、R2各自独立地选自氢、C1~C10烷基;
当R1、R2不同时为氢时,所述5-羟甲基四氮唑及其衍生物的合成方法的合成方法路线如下路线I所示:
路线I:
其中,R3选自氢、烷氧基;
具体操作步骤为:
步骤1、化合物A-1和格氏试剂A-2在有机溶剂存在下,降温发生亲核加成反应,后处理得到化合物A-3;
步骤2、化合物A-3中加入酸试剂和混合溶剂,常温反应去除Trt保护基,后处理得到目标产品5-羟甲基四氮唑及其衍生物;
当R1、R2同时为氢时,所述5-羟甲基四氮唑及其衍生物的合成方法的合成方法路线如下路线II所示:
路线II:
其中,R3选自氢、烷氧基;
具体操作步骤为:
步骤1、化合物A-1在还原剂和有机溶剂存在下,降温进行还原反应,后处理得到化合物A-3;
步骤2、化合物A-3中加入酸试剂和混合溶剂,常温反应去除Trt保护基,后处理得到目标产品5-羟甲基四氮唑及其衍生物。
2.根据权利要求1所述方法,其特征在于,
所述R1、R2各自独立地选自氢、甲基、乙基、丙基、异丙基、环丙基、丁基、异丁基、环丁基、环戊基、环己基;
所述R3选自氢、甲氧基、乙氧基。
3.根据权利要求1所述方法,其特征在于,
所述还原剂为氢化铝锂、硼氢化钠、硼氢化锂;
所述酸试剂中酸为盐酸、硫酸、硝酸;
所述酸试剂为酸摩尔浓度4mol/L的有机溶剂溶液。
4.根据权利要求1所述方法,其特征在于,
所述化合物A-1与格氏试剂A-2的摩尔比为1:1.5~1:3;
所述化合物A-1与还原剂的摩尔比为1:1.5~1:3;
所述化合物A-1与有机溶剂的重量体积比为1:20~1:60。
5.根据权利要求1所述方法,其特征在于,
所述化合物A-3与酸试剂的重量体积比为1:5~1:20;
所述化合物A-3与混合溶剂的重量体积比为1:10~1:30。
6.根据权利要求1所述方法,其特征在于,
所述路线I的具体操作为:
将化合物A-1和格氏试剂A-2加入四氢呋喃溶剂中,在惰性气体环境下冰浴降温至0~5℃搅拌反应1~3小时,后处理得到化合物A-3;
化合物A-3中加入二氯甲烷溶剂,然后加入酸试剂的二氧六环溶液,常温搅拌1~3小时,后处理得到目标产品5-羟甲基四氮唑及其衍生物(式A)。
7.根据权利要求1所述方法,其特征在于,
所述路线II的具体操作为:
将化合物A-1和还原剂加入四氢呋喃溶剂中,反应液冰浴降温至0~5℃搅拌反应1~3小时,后处理得到化合物A-3;
化合物A-3中加入二氯甲烷溶剂,然后加入酸试剂的二氧六环溶液,常温搅拌1~3小时,后处理得到目标产品5-羟甲基四氮唑及其衍生物(式A)。
8.根据权利要求1所述方法,其特征在于,
当R3为乙氧基时,所述化合物A-1由5-甲酸乙酯四氮唑为原料,与三苯基氯甲烷(TrtCl)反应制备得到。
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