[发明专利]显示装置

权利要求书

1.一种显示装置，其特征在于，包括：

显示背板；

彩膜基板，所述彩膜基板与所述显示背板对盒设置；

纳米金属光栅结构，所述纳米金属光栅结构设置在所述彩膜基板靠近所述显示背板的一侧。

2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述纳米金属光栅结构包括介质层和金属层，其中，所述介质层由同层且间隔设置的多个凸起组成，所述金属层设置在所述凸起远离所述彩膜基板的表面或填充在相邻的两个所述凸起之间。

3.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，所述介质层的厚度为50～100nm，且所述金属层的厚度为40～60nm。

4.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，所述纳米金属光栅结构的占空比为0.5～0.75。

5.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，所述纳米金属光栅结构通过光刻工艺或压印工艺形成的。

6.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，包括多个阵列分布的像素单元，每个所述像素单元包括第一子像素单元、第二子像素单元和第三子像素单元；且三个所述子像素单元中的任意两个内，所述纳米金属光栅结构靠近所述显示背板的一侧都设置有光致发光层。

7.根据权利要求6所述的显示装置，其特征在于，所述显示背板上的有机发光层发出第一颜色的光；所述第二子像素单元中的所述光致发光层，在所述第一颜色的光激发下发出第二颜色的光；所述第三子像素单元中的所述光致发光层，在所述第一颜色的光激发下发出第三颜色的光。

8.根据权利要求7所述的显示装置，其特征在于，所述第一颜色的光为蓝光，所述第二颜色的光为红光，且所述第三颜色的光为绿光。

9.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，所述第一子像素单元中的所述纳米金属光栅结构的光栅周期为210～270nm，所述第二子像素单元中的所述纳米金属光栅结构的光栅周期为350～420nm，且所述第三子像素单元中的所述纳米金属光栅结构的光栅周期为310～360nm。

10.根据权利要求6所述的显示装置，其特征在于，所述光致发光层由量子点材料形成。