[发明专利]一种中温龙泉青釉的烧制工艺及其烧制设备

说明书

本发明公开了一种中温龙泉青釉的烧制工艺及设备，其氧化物化学组成按重量百分比计为：62～66％SiO2，14～16％Al2O3，0.3～0.8％MgO，11～17％CaO，3～5％K2O，0.2～0.5％Na2O，0～0.25％TiO2，0.03～0.1％MnO，0.1～0.15％Fe2O3，此中温龙泉青釉的烧制工艺及其烧制设备，区别于现有技术，在解决了大批量生产过程中，其青釉易出现色差的难题的同时，能够保证青釉烧制过程中的均匀稳定烧制，能够对各尺寸青瓷进行高效的旋转烧制防护，保证绝对稳定安全的均匀烧制，且同时能够对倾斜的青瓷进行有效的复位，进而保证高质量烧制。

技术领域

本发明涉及青釉烧制技术领域，具体为一种中温龙泉青釉的烧制工艺及其烧制设备。

背景技术

目前，我国龙泉青瓷热处理温度在1200℃～1280℃左右烧成，这些龙泉青瓷通过精选优质原料、精工细作，通过传统龙泉青瓷成瓷工艺，可通过二次烧成工艺得到釉色均匀、玉质感强的龙泉青瓷，然而，由于龙泉青瓷青釉为生料釉，青瓷同一批产品量大时，易出现较为严重的色差，到目前为止，经验证明，要配制一种在1150℃～1280℃左右以下成熟、釉色呈色稳定而外观质量又能满足高级日用陶瓷的釉有一定的困难，且青釉在烧制过程中，往往会因烧制受热面受热不均匀，而降低产品的成功率。

而根据专利号CN201720980182.2公开的一种旋转青瓷烧制窑炉，包括炉体和推车，所述推车顶端四周设有围墙，所述炉体底部设有与围墙相配合的缺口，所述推车上设有轮子，所述推车底部设有与轮子相配合的轨道，所述推车上设有支撑板，所述支撑板前部分别设有减速器和伺服电机，所述减速器上设有主动齿轮，所述支撑板中后部分别设有第一旋转轴和第二旋转轴，所述第一旋转轴通过第一链条与第二旋转轴相连接，所述第二旋转轴通过第二链条与主动齿轮相连接，所述第一旋转轴和第二旋转轴顶部分别设有托盘，所述炉体的一侧设有炉门，其烧制青瓷时托盘匀速旋转，使得瓷器在烧制过程中每个面均匀受热，从而提高其成品率。

然而，在实际使用时，其有效防止青瓷坠落的挡板使用具有相当高的局限性，即当青瓷大小尺寸和高度尺寸差异较大时，通过挡板并不能保证高效防护，即当烧制高青瓷，收起高度及重心的变化，并不能保证对青瓷进行有效的防坠，而旋转均匀受热的过程又是持续运动的过程，防护不高效则极易导致青瓷坠落，安全性能不好，为此，我们提出一种中温龙泉青釉的烧制工艺及其烧制设备。

发明内容

本发明的目的在于提供一种中温龙泉青釉的烧制工艺及其烧制设备，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种中温龙泉青釉的烧制工艺，其氧化物化学组成按重量百分比计为：62～66％SiO2，14～16％Al2O3，0.3～0.8％MgO，11～17％CaO，3～5％K2O，0.2～0.5％Na2O，0～0.25％TiO2，0.03～0.1％MnO，0.1～0.15％Fe2O3；

青釉由下列重量份的原料制成：熔块70～95％、高岭土0～8％、紫金土0～5％、石英0～15％、钾长石0～7％；

熔块由下列重量份的原料制成：钾长石粉25～40％，高岭土粉5～15％，石英5～10％，龙泉瓷土25～30％，氧化铝粉15～25％，煅烧滑石5～10％，黄石玄釉土1～8％；

其烧制工艺如下：

S1熔块的制备：取所述的熔块原料，均匀混合后，在还原气氛下熔融，熔制温度为1280℃～1350℃，然后经水淬、球磨、干燥后得到熔块；

S2釉浆的制备：取所述的熔块釉原料进行配料，熔块釉经球磨过筛后得到青瓷釉料，釉浆陈腐后过筛除铁；

S3将龙泉青瓷坯体干燥或坯体进行650℃～800℃素烧一次；

S4将干燥后或素烧后龙泉青瓷除尘补水后，施青釉；