[发明专利]一种中温龙泉青釉的烧制工艺及其烧制设备

权利要求书

1.一种中温龙泉青釉的烧制工艺，其氧化物化学组成按重量百分比计为：62～66％SiO2，14～16％Al2O3，0.3～0.8％MgO，11～17％CaO，3～5％K2O，0.2～0.5％Na2O，0～0.25％TiO2，0.03～0.1％MnO，0.1～0.15％Fe2O3；

青釉由下列重量份的原料制成：熔块70～95％、高岭土0～8％、紫金土0～5％、石英0～15％、钾长石0～7％；

熔块由下列重量份的原料制成：钾长石粉25～40％，高岭土粉5～15％，石英5～10％，龙泉瓷土25～30％，氧化铝粉15～25％，煅烧滑石5～10％，黄石玄釉土1～8％；

其烧制工艺如下：

S1熔块的制备：取所述的熔块原料，均匀混合后，在还原气氛下熔融，熔制温度为1280℃～1350℃，然后经水淬、球磨、干燥后得到熔块；

S2釉浆的制备：取所述的熔块釉原料进行配料，熔块釉经球磨过筛后得到青瓷釉料，釉浆陈腐后过筛除铁；

S3将龙泉青瓷坯体干燥或坯体进行650℃～800℃素烧一次；

S4将干燥后或素烧后龙泉青瓷除尘补水后，施青釉；

S5将施釉后的龙泉青瓷产品在还原气氛下热处理；

步骤S2中，所述熔块釉的球磨机转速为500～1000r/min，球磨时间为3～8h，在该条件下，球磨机球磨均匀，球磨颗粒粒径小，颗粒粒径分布均匀，从而确保了最终龙泉青瓷青釉浆料球磨质量好、效率高、能耗低、料浆稳定性高。球磨到釉料混合物细度为D10＞0.05μm，D90为0.25±0.05μm，D100＜1μm。龙泉青瓷青釉呈色更为稳定，呈色效果更佳，釉浆陈腐后过筛的釉浆细度250目，筛余0.03～0.06％，釉浆浓度1.55～1.92g/cm3；

步骤S4中：在龙泉青瓷干燥后或素烧后的坯体上，施青釉层厚度为1～3mm，还原气氛下热处理的温度为1150℃～1280℃，热处理升温速度为2～5℃/min，保温时间0.5～1.5h。

2.根据权利要求1所述的一种中温龙泉青釉的烧制设备，包括烧结炉主体(1)、设置在烧结炉主体(1)内的移动支撑底座(2)和多个等距设置在移动支撑底座(2)上的旋转驱动盘(3)，所述旋转驱动盘(3)均通过贯穿移动支撑底座(2)的转轴转动安装在移动支撑底座(2)上，其特征在于：所述旋转驱动盘(3)上等距设置有多个升降驱动机构(4)，所述升降驱动机构(4)内侧均安装有弹性限位机构(5)，且升降驱动机构(4)均分别与弹性限位机构(5)活动连接。

3.根据权利要求2所述的一种中温龙泉青釉的烧制设备，其特征在于：所述升降驱动机构(4)包括固定柱(6)，所述固定柱(6)固定在旋转驱动盘(3)上，且固定柱(6)内开设有横向贯穿的纵向升降滑槽(7)，所述纵向升降滑槽(7)内滑动设置有驱动座(8)，所述固定柱(6)内设置有驱动件(9)，且固定柱(6)外侧滑动设置有驱动连座(10)，所述驱动件(9)与驱动座(8)传动连接，所述驱动连座(10)内侧与驱动座(8)固定，且驱动连座(10)外部内侧固定有安装支柱(11)。

4.根据权利要求3所述的一种中温龙泉青釉的烧制设备，其特征在于：所述驱动件(9)包括驱动螺杆(12)，所述驱动螺杆(12)贯穿固定柱(6)，且驱动螺杆(12)通过转轴转动设置在固定柱(6)上，所述驱动螺杆(12)螺纹贯穿驱动座(8)，且驱动螺杆(12)顶端固定有便于驱动螺杆(12)旋转的握持件(13)。

5.根据权利要求4所述的一种中温龙泉青釉的烧制设备，其特征在于：所述弹性限位机构(5)包括固定座(14)，所述固定座(14)活动安装在安装支柱(11)顶端，且固定座(14)远离固定柱(6)的一侧安装有弹性复位件(15)，所述弹性复位件(15)远离固定座(14)的一端安装有接触顶块(16)。

6.根据权利要求5所述的一种中温龙泉青釉的烧制设备，其特征在于：所述弹性复位件(15)包括压缩弹簧(17)和定向伸缩杆(18)，所述定向伸缩杆(18)两端分别与接触顶块(16)和固定座(14)固定连接，所述压缩弹簧(17)套在定向伸缩杆(18)外侧，且压缩弹簧(17)两端分别与接触顶块(16)和固定座(14)活动接触。