[发明专利]双涂覆器流体分配方法有效
申请号: | 202010086331.7 | 申请日: | 2015-07-08 |
公开(公告)号: | CN111495684B | 公开(公告)日: | 2021-11-23 |
发明(设计)人: | 克里斯托弗·L·朱斯蒂;菲利普·P·马约尔卡;马克·S·迈尔;大卫·N·帕吉特 | 申请(专利权)人: | 诺信公司 |
主分类号: | B05C5/02 | 分类号: | B05C5/02;B05C11/10 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 沈同全;车文 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 双涂覆器 流体 分配 方法 | ||
1.一种分配流体的方法,所述方法包括:
a.捕获被设置在多个电子衬底的XY平面上的多个分配区域的至少一个图像,所述多个分配区域包括第一分配区域、第二分配区域、第三分配区域和第四分配区域,所述第一分配区域与所述第二分配区域相邻;
b.识别与所述第一分配区域、所述第二分配区域、所述第三分配区域和所述第四分配区域相关联的参考基准;
c.基于所识别的参考基准,确定在所述第一分配区域、所述第二分配区域、所述第三分配区域和所述第四分配区域中的每一个分配区域处的分配位置,所述第一分配区域和所述第二分配区域中的一个分配区域的所述分配位置相对于所述第一分配区域和所述第二分配区域中的另一个分配区域的分配位置不对准,以及所述第三分配区域和所述第四分配区域的分配位置相对于彼此对准;
d.在确定所述多个分配区域中的每一个分配区域处的所述分配位置之后,选择所述第一分配区域和所述第二分配区域;
e.在选择所述第一分配区域和所述第二分配区域之后,在所述第一分配区域和所述第二分配区域处分配第一流体图案和第二流体图案,包括:
(i)使用第一涂覆器在所述第一分配区域处分配流体,且使用第二涂覆器在所述第二分配区域处分配流体;
(ii)使用初级定位器并在从所述第一涂敷器分配流体时,在所述多个电子衬底的XY平面上方且沿着所述多个电子衬底的XY平面移动所述第一涂敷器,以在第一分配区域处形成所述第一流体图案;和
(iii)使用所述初级定位器和次级定位器且在从所述第一涂覆器分配流体的同时从所述第二涂覆器分配流体时,在所述多个电子衬底的XY平面上方和沿着所述多个电子衬底的XY平面并相对于所述第一涂敷器移动第二涂覆器,以在所述第二分配区域处形成所述第二流体图案;
f.在确定被设置在所述多个电子衬底的XY平面上的所述分配区域中的每个分配区域处的所述分配位置之后,以及在所述第一分配区域和所述第二分配区域处分配所述第一流体图案和所述第二流体图案之后或之前,选择所述第三分配区域和所述第四分配区域;和
g.在选择所述第三分配区域和所述第四分配区域之后,在所述第三分配区域和所述第四分配区域处分配所述第一流体图案和所述第二流体图案,包括:
(i)使用所述第一涂覆器在所述第三分配区域处分配流体,且使用所述第二涂覆器在所述第四分配区域处分配流体;
(ii)使用所述初级定位器且在从所述第一涂敷器分配流体时,在所述多个电子衬底的XY平面上方且沿着所述多个电子衬底的XY平面移动所述第一涂敷器,以在所述第三分配区域处形成所述第一流体图案;和
(iii)使用所述初级定位器且在从所述第一涂覆器分配流体的同时从所述第二涂覆器分配流体时,在所述多个电子衬底的XY平面的上方和沿着所述多个电子衬底的XY平面使所述第二涂覆器与所述第一涂覆器一起移动,以在所述第四分配区域处形成所述第二流体图案。
2.根据权利要求1所述的方法,还包括:在向所述多个电子衬底分配流体之前,将所述第一涂敷器指派给所述第一分配区域且将所述第二涂敷器指派给所述第二分配区域。
3.根据权利要求1所述的方法,还包括:在向所述多个电子衬底分配流体之前,将所述第一涂敷器指派给所述第三分配区域且将所述第二涂敷器指派给所述第四分配区域。
4.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一分配区域和所述第二分配区域中的所述一个分配区域的分配位置相对于所述第一分配区域和所述第二分配区域中的所述另一个分配区域的分配位置旋转。
5.根据权利要求1所述的方法,其中所述第三分配区域和所述第四分配区域的分配位置不相对彼此旋转。
6.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一流体图案和所述第二流体图案在尺寸和形状上基本相同。
7.根据权利要求1所述的方法,其中使用所述初级定位器和所述次级定位器移动所述第二涂敷器以在所述第二分配区域处形成所述第二流体图案在确定所述第一分配区域和所述第二分配区域未对准之后并且响应于确定所述第一分配区域和所述第二分配区域未对准而发生。
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